Gebraucht ULVAC IPZ-9001 #293675960 zu verkaufen

ID: 293675960
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
Ion implanter, 6" Monitor controller (2) Helium compressors Oscilloscope Scan chamber Endstation Platen (2) Red box chambers Red box Flow meter rack Main controller, PD Power rack Rotary pump1 PMB001CM Rotary pump, D‑750DK Drive (3) Door panels Set of floor panel Pallet 1: (4) Lamp bulbs (4) Lamp upper covers (6) Ion gauges (3) Ion gauge covers Isolation tube Divider Acceleration tube ADIXEN Pascal Rotary vane pump, frame Pallet 2: Oil trance Manometer assembly Pallet 3: High‑voltage Stack (2) Earth bars Pallet 4: Foot base plate Docking bracket (4) Covers Pallet 5: UL180P5G1222 High‑voltage power supply, base assembly Exhaust duct assembly Box 1995 vintage.
ULVAC IPZ-9001 ist ein hochmoderner Ionenimplantator und -monitor für fortschrittliche Halbleiterherstellungsanwendungen. Dieses Instrument ist ein wichtiges Werkzeug zur Dotierung von Halbleitermaterialien mit präzisen Mengen an Verunreinigungen, um Hochleistungs-integrierte Schaltungen zu schaffen. Im Kern der IPZ-9001 ist seine Ionenimplantationsanlage, die ein ausgeklügeltes Verfahren verwendet, um Dotierungsionen in die Oberfläche eines Halbleitersubstrats einzuführen. Dabei wird ein Strahl von hochenergetischen positiv geladenen Ionen erzeugt, auf hohe Geschwindigkeiten beschleunigt und anschließend in das Zielmaterial implantiert. Die Ionen dringen in die Oberfläche des Substrats ein, verändern dessen elektrische Eigenschaften und erzeugen das gewünschte Dotierungsprofil. Eines der Hauptmerkmale von ULVAC IPZ-9001 ist das fortschrittliche Beamline-Design, das eine präzise Steuerung der Ionenstrahlparameter gewährleistet. Das System ist mit einem Satz elektrostatischer und magnetischer Linsen ausgestattet, die eine genaue Fokussierung und Lenkung des Ionenstrahls ermöglichen. Diese Steuerung ist wesentlich, um die exakten Dotierstoffkonzentrationen und Verteilungsprofile für hochmoderne Halbleiterbauelemente zu erreichen. Ein weiterer wichtiger Aspekt der IPZ-9001 ist die hochenergetische Ionenquelle, die Ionen mit Energien von wenigen keV bis zu Hunderten von keV erzeugen kann. Diese breite Palette von Ionenenergien ermöglicht Flexibilität bei der Dotierung verschiedener Arten von Halbleitermaterialien und -strukturen. Darüber hinaus verfügt die Einheit über eine vielseitige Ionenarten-Auswahlmöglichkeit, die den Einsatz verschiedener Dotierungselemente zur Anpassung der elektrischen Eigenschaften des Halbleiterbauelements ermöglicht. In Bezug auf Überwachung und Steuerung ist ULVAC IPZ-9001 mit einer umfassenden Palette von Diagnose- und Feedback-Mechanismen ausgestattet. Die Maschine verfügt über erweiterte Strahlstrom- und Energieüberwachungssensoren, die Echtzeitdaten zu den Ionenstrahlparametern liefern. Diese Informationen sind wesentlich, um die Stabilität und Konsistenz des Ionenimplantationsprozesses zu gewährleisten und eventuelle Abweichungen von den gewünschten Dotierungsspezifikationen zu erkennen. Darüber hinaus verfügt IPZ-9001 über erweiterte Automatisierungs- und Softwaresteuerungsfunktionen für eine effiziente Bedienung und Prozessoptimierung. Das Tool ist mit intuitiven Benutzeroberflächen und Software-Tools ausgestattet, mit denen Benutzer komplexe Ionenimplantationsrezepte problemlos programmieren und ausführen können. Darüber hinaus kann das Asset in eine größere Halbleiterfertigungslinie integriert werden, die einen nahtlosen Datenaustausch und Steuerungsverbindungen ermöglicht. Insgesamt stellt ULVAC IPZ-9001 eine hochmoderne Lösung für die Ionenimplantation in der Halbleiterherstellung dar. Das fortschrittliche Beamline-Design, die Hochenergie-Ionenquelle, Überwachungsfunktionen und Automatisierungsfunktionen machen es zu einem unverzichtbaren Werkzeug, um die genauen Dotierungsprofile für Halbleiterbauelemente der nächsten Generation zu erreichen. Mit seiner hohen Leistung und Vielseitigkeit ist IPZ-9001 bestrebt, Innovationen voranzutreiben und die Entwicklung fortschrittlicher Halbleitertechnologien zu ermöglichen.
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