Gebraucht ULVAC SMI-60H #293647824 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 293647824
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Medium current hydrogen ion implanter, 12"
DI Water circulator
(2) Mass flow controllers
(20) Transfer particles: ±0.2 µm
Ion source head: H2+, 4He+
X-Ray leak rate: 0.6 µSv/h
Gas supply line:H2 / He Gas bottle
Vacuum pumping system:
EBARA AA10N Dry pump
SHIMADZU TMP803M Turbo molecular pump, 800 liter/sec
SHIMADZU TMP1003M Turbo molecular pump, 1000 liter/sec
Process chamber: SHIMADZU TMP3203M Turbo molecular pump, 3000 liter/sec
EBARA AA10N Dry pump Turbo molecular pump 300 liter/sec
Pirani vacuum gauge
Ionization vacuum gauge
End station (Transfer chamber / Process chamber)
Substrate size: 230mm x 180 mm x 0.7 mm
Vacuum transfer system: Vacuum transfer robot
Platen: ESC
Substrate scanning system: Y-Stage
ATM transfer robot
Clean unit
(2) Rorze RV201-F05-004-1 Foup Opener
Notch aligner: for 300 mm and 200 mm
Conversion kit for 200mm / 300mm:
Platen, cooling plate, L/L plate
Vacuum robot pick-up
Maximum beam current:
8mA at 60 keV at H2+
8mA at 35 keV at He+
Beam current stability: ≤±10 % / hour
Implant uniformity: ≤5％ (Distribution of peak depth)
Implant condition: H2+ , 60kV, 3.0E16 ions/cm
Measurement condition: SIMS 5piont (Within wafer)
Mass analyzing capability: H2+, 4He
Substrate size: 230 mm x 180 mm
Dose integrator capability: 1.0E15 –2.0E17 ions/cm²
Wafer tilt angle: 0 to 60° (±1°)
Metal contamination: Surface <5x1010/cm² (Fe, Ni, Cr, Zn, Cu by TXRF)
Implant condition: H2+ ,60keV, 3.0E16 ions/cm²
Ultimate pressure :
Ion Source: 6.7x10-4 Pa(5.0x10-6Torr)
Beam Line: 6.7 x 10-5 Pa(5.0x10-7Torr)
Process chamber: 6.7 x 10-5 Pa(5.0x10-7Torr)
Ion extraction system:
Extraction power supply
Extraction electrode
Beam focusing system:
Einzel-lens
Power supply
Mass analyzer magnet:
Deflection Coil Magnet, 90°
Power supply for magnet: 10V / 60A
Analyzing slit
Post acceleration system:
Acceleration tube
High voltage power supply
Beam focusing system:
Magnetic quadrupole lens
Power supply
Beam monitoring system:
Pre-amplifier
Dose monitor
Control system:
Computer
End-station / Pumping control: Sequencer
UPS For computer
Energy range:
30keV to 70keV (for H2+)
30keV to 35keV (for He+)
Spare parts: Ion source consumable parts
Power: 35~60keV
Dose: 1.0 x 10^15 ~ 2.0 x 10^17 H2+ions/cm²
Max RP: ~600 nm
Manuals included
2007 vintage.
ULVAC SMI-60H ist ein führender Ionenimplantator und Monitor, der in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es ist ein Hochleistungswerkzeug, das die höchste Implantationsgenauigkeit auf dem Markt bietet. Es wurde entwickelt, um effiziente, hochpräzise Ionenimplantationsprozesse mit überlegener Reproduzierbarkeit und minimalem Wartungsaufwand bereitzustellen. SMI-60H nutzt fortschrittliche Steuerungs- und Beschleunigungstechnologien, um einen optimalen Ionenimplantationsprozess bereitzustellen. Es ist mit einem hochmodernen Strahlformungssystem ausgestattet, das maximale Flexibilität bei der Auswahl des Strahlprofils, elektrischer und magnetischer Felder ermöglicht. Dieses System ermöglicht unglaublich genaue Implantationsergebnisse bei vernachlässigbarer Strahlfragmentierung. Darüber hinaus können verschiedene Arten von Ionen für verschiedene Arten von Substraten und Implantaten verwendet werden. Die Benutzeroberfläche von ULVAC SMI-60H ist sehr intuitiv und einfach zu bedienen. Die Spieler können schnell Prozesse und Parameter für verschiedene Implantationen mit Leichtigkeit einrichten. Es wird auch mit umfassenden Materialanalysefunktionen ausgestattet, um optimale Implantationsergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus stellen die umfassenden Überwachungsfunktionen sicher, dass Anwender über alle Informationen verfügen, die sie benötigen, um den Prozess zu optimieren und die Prozessleistung zu verbessern. SMI-60H kommt auch mit einer intelligenten Temperaturregelung, die sicherstellt, dass das Substrat auf eine optimale Verarbeitungstemperatur erwärmt wird. Dadurch wird die Gefahr einer thermischen Schädigung des Substrats verringert. Darüber hinaus hält es die implantierten Partikel in einer stabilen und sicheren Umgebung und gewährleistet so ihre Genauigkeit. ULVAC SMI-60H ist auf maximale Sicherheit und Zuverlässigkeit ausgelegt, mit zahlreichen Sicherheitssystemen und Sensoren. Dies ermöglicht es Benutzern, das Gerät ohne Sorge zu bedienen, während die Ionenimplantation mit minimalen Chancen auf Geräteausfall durchgeführt wird. Darüber hinaus ist das Gerät hocheffizient ausgelegt und kann mit seinem flexiblen Aufbau die Prozesszykluszeit reduzieren und somit eine maximale Produktivität gewährleisten. SMI-60H ist ein unglaublich leistungsfähiger und zuverlässiger Ionenimplantator und -monitor. Es nutzt fortschrittliche Technologien und Funktionen, die präzise und genaue Implantationsprozesse bei minimalem Wartungsaufwand ermöglichen. Dank seiner intuitiven Benutzeroberfläche können Anwender schnell und einfach verschiedene Implantationen einrichten und die Ergebnisse überwachen. Die umfassenden Sicherheitssysteme sorgen für maximale Sicherheit für Anwender und Substrate. All diese Funktionen und Technologien machen ULVAC SMI-60H zu einer idealen Wahl für jede Halbleiterindustrie.
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