Gebraucht VARIAN 120-10 #9068892 zu verkaufen

VARIAN 120-10 Ionenimplantierer und -monitor ist eine vielseitige und zuverlässige Lösung für eine breite Palette von Ionenimplantationsprozessen. Es verfügt über eine einzigartige Vibrationszufuhreinrichtung, die eine gleichmäßige Ionenverteilung über die Implantatprobe und eine präzise Genauigkeit der Dosisabgabe gewährleistet. Die selbstkalibrierende Ionenquelle und Strahloptik wurde entwickelt, um die Implantation schwerer Elemente zu optimieren und eine Reihe von Energien bis zu 120 keV abzudecken. Das Monitormodul bietet eine ganze Reihe von Stromversorgungen für verschiedene Implantationsparameter, einschließlich Energie, Strahlstrom, Strahlverschiebung und Zeit der Implantation. Darüber hinaus verfügt es über ein Ferndiagnosesystem zur präzisen Überwachung und Steuerung aller Schlüsselparameter. 120-10 verfügt auch über eine integrierte Prozesseinheit, mit der Gasdrücke, Temperaturen, Hintergrundspannung und Magnetfelder für verschiedene Implantationsoperationen geregelt werden können. Diese Maschine wurde entwickelt, um die gesamte Prozesseffizienz zu erhöhen und den Durchsatz zu verbessern. Zusätzlich ist die Maschine mit einem Strahlstromüberwachungs- und Profilüberwachungswerkzeug ausgestattet, das die Ausrichtung und Optimierung des Implantationsprozesses unterstützt. VARIAN 120-10 verfügt auch über mehrere Sicherheitsmerkmale, um Benutzer zu schützen und die Sicherheit während des Betriebs zu gewährleisten. Es ist mit einer Vakuumverriegelung ausgestattet, die verwendet werden kann, um den Strahl abzuschalten und die Strahllinie, die Abschirmung und andere Komponenten vor Überdruck oder schnellen Auslaufbedingungen zu schützen. Zusätzlich enthält die Maschine im Notfall einen Not-Aus-Knopf. Insgesamt ist der 120-10-Ionen-Implantierer und -Monitor eine zuverlässige Lösung für jeden Ionenimplantationsprozess. Sein vielseitiges Design und seine integrierten Sicherheitsmerkmale geben dem Anwender das Vertrauen in einen zuverlässigen Betrieb. Die Maschine wurde entwickelt, um eine breite Palette von Energien bis zu 120 keV abdecken, um genaue Implantationsergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus kann seine Fähigkeit, Gasdrücke, Temperatur, Hintergrundspannung und Magnetfelder zu regulieren, den Implantationsprozess optimieren.