Gebraucht VARIAN 160XP #9198478 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9198478
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
Implanter, 6"
Maximum beam energy: 160kV
Energy range: 10kV–160kV
B+: 5mA
BF2+: 7mA
As+: 10mA
P+: 10mA
Sb+: 5mA
(2) Chambers implant process
Source
Beam-line
End station 1 & 2
Dual faraday system: Flood gun
EFG Charge control system
Modules:
Mechanical module
HEPA Filter flow hood
Remote console
Gas box
End station module
Electrical console
High voltage power supply
Dopant source
Argon (High pressure)
Ion source type:
Solid source: Antimony
(3) Gas sources:
Boron HP
Arsine HP
Phosphine HP
Pumps:
VARIAN Diffusion pump
EDWARDS IQDP80
EDWARDS IQDP40
(4) CT8 Cryopumps
CDA Pressure 100 PSI
N2 Pressure 20 PSI
(4) Toxic needle valve controlled gas systems
Power supply: 208 VAC, 60 kVA
1995 vintage.
VARIAN 160XP ist ein hochmodernes Ionenimplantations- und Überwachungssystem. Es ist ideal für komplexe Halbleiteranwendungen und hilft bei der Optimierung der Qualität eines breiten Spektrums von Halbleitermaterialien. Die Maschine arbeitet durch Senden eines Flusses von positiven Ionen, in der Regel durch einen festen Beschleuniger innerhalb des Systems gesteuert. Diese Ionen werden dann bei niedrigen Energien in ein Substrat, typischerweise Silizium oder Germanium, injiziert. Das Ergebnis ist eine kontrollierte Dotierung innerhalb des Substrats. Mit der VARIAN 160 XP ist eine hohe Dotierungsregelung möglich, da Beschleunigungsspannung und Strahlstrom für jedes Implantat eingestellt werden können. Dies sorgt für eine höhere Kontrolle und Präzision im Implantatprozess. Um die Ionenimplantationseffizienz zu maximieren, ist 160XP auf integrierte Prozessdiagnostik und Überwachung ausgelegt. Es verfügt über einen proprietären Strahlmonitor, der kontinuierliches Feedback über die Genauigkeit und Leistung des Prozesses liefert. Dies ermöglicht es Benutzern, Ionen-Implantat-Strahlparameter einfach anzupassen und nachzujustieren, während ihr Experiment noch im Gange ist, ohne es wiederholen zu müssen. Zusätzlich zu diesen Funktionen verfügt 160 XP über eine Reihe nützlicher Tools und Softwarepakete zur Optimierung des Prozesses. Dazu gehören die Optimierung der Dosisrate, um optimale Implantationsraten zu gewährleisten, die automatisierte Programmierung der Strahlparameter zur Maximierung des Durchsatzes und erweiterte Software-Tools zur Datenerfassung. Das System umfasst auch Autofokus-Funktionen, die es dem Benutzer ermöglichen, den Fokus des Ionenstrahls genau zu messen und anzupassen. Insgesamt ist VARIAN 160XP ein hochmoderner Ionenimplantator und -monitor. Es wurde für maximale Effizienz und Genauigkeit entwickelt und verfügt über erweiterte Software- und Steuerungsfunktionen. Es ist eine ideale und zuverlässige Wahl für jedes Labor, das mit Halbleitermaterial arbeitet und eine kontrollierte Dotierung benötigt.
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