Gebraucht VARIAN 160XP #9198478 zu verkaufen

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ID: 9198478
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
Implanter, 6" Maximum beam energy: 160kV Energy range: 10kV–160kV B+: 5mA BF2+: 7mA As+: 10mA P+: 10mA Sb+: 5mA (2) Chambers implant process Source Beam-line End station 1 & 2 Dual faraday system: Flood gun EFG Charge control system Modules: Mechanical module HEPA Filter flow hood Remote console Gas box End station module Electrical console High voltage power supply Dopant source Argon (High pressure) Ion source type: Solid source: Antimony (3) Gas sources: Boron HP Arsine HP Phosphine HP Pumps: VARIAN Diffusion pump EDWARDS IQDP80 EDWARDS IQDP40 (4) CT8 Cryopumps CDA Pressure 100 PSI N2 Pressure 20 PSI (4) Toxic needle valve controlled gas systems Power supply: 208 VAC, 60 kVA 1995 vintage.
VARIAN 160XP ist ein hochmodernes Ionenimplantations- und Überwachungssystem. Es ist ideal für komplexe Halbleiteranwendungen und hilft bei der Optimierung der Qualität eines breiten Spektrums von Halbleitermaterialien. Die Maschine arbeitet durch Senden eines Flusses von positiven Ionen, in der Regel durch einen festen Beschleuniger innerhalb des Systems gesteuert. Diese Ionen werden dann bei niedrigen Energien in ein Substrat, typischerweise Silizium oder Germanium, injiziert. Das Ergebnis ist eine kontrollierte Dotierung innerhalb des Substrats. Mit der VARIAN 160 XP ist eine hohe Dotierungsregelung möglich, da Beschleunigungsspannung und Strahlstrom für jedes Implantat eingestellt werden können. Dies sorgt für eine höhere Kontrolle und Präzision im Implantatprozess. Um die Ionenimplantationseffizienz zu maximieren, ist 160XP auf integrierte Prozessdiagnostik und Überwachung ausgelegt. Es verfügt über einen proprietären Strahlmonitor, der kontinuierliches Feedback über die Genauigkeit und Leistung des Prozesses liefert. Dies ermöglicht es Benutzern, Ionen-Implantat-Strahlparameter einfach anzupassen und nachzujustieren, während ihr Experiment noch im Gange ist, ohne es wiederholen zu müssen. Zusätzlich zu diesen Funktionen verfügt 160 XP über eine Reihe nützlicher Tools und Softwarepakete zur Optimierung des Prozesses. Dazu gehören die Optimierung der Dosisrate, um optimale Implantationsraten zu gewährleisten, die automatisierte Programmierung der Strahlparameter zur Maximierung des Durchsatzes und erweiterte Software-Tools zur Datenerfassung. Das System umfasst auch Autofokus-Funktionen, die es dem Benutzer ermöglichen, den Fokus des Ionenstrahls genau zu messen und anzupassen. Insgesamt ist VARIAN 160XP ein hochmoderner Ionenimplantator und -monitor. Es wurde für maximale Effizienz und Genauigkeit entwickelt und verfügt über erweiterte Software- und Steuerungsfunktionen. Es ist eine ideale und zuverlässige Wahl für jedes Labor, das mit Halbleitermaterial arbeitet und eine kontrollierte Dotierung benötigt.
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