Gebraucht VARIAN 300XP #293829234 zu verkaufen
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ID: 293829234
Wafergröße: 5"-6"
Ion implanter, 5"-6"
Wheel
Wafer tilt: 7
Source: Beam
Extraction system: Copper pipe/bellow
Gases: BF3, Ar, PH3
SDS Gas box: High pressure
Maximum implantation energy: 120 Kev
Maximum Extraction voltage: 80 Kev
Cooling water pump
(2) Trays
AMU
Beamline column
Mechanical clamp
8 x 3 Cryo.
VARIAN 300XP ist ein von VARIAN, Inc. Es ist in der Halbleiterindustrie zum Implantieren von Ionen in Dünnschichtmaterialien weit verbreitet. Dieser Ionenimplantator und -monitor ist äußerst zuverlässig und präzise. VARIAN 300 XP nutzt eine Kombination aus Hochspannung und kinetischer Energie, um eine präzise und kontrollierte Ionenimplantation zu erreichen. 300XP beschleunigt Ionen auf hohe Geschwindigkeiten und injiziert sie in einen dünnen Film unter genau kontrollierter Dosis und Winkel. Dies ermöglicht eine glattere und gleichmäßigere Verteilung der implantierten Ionen, was zu zuverlässigeren und genaueren Ergebnissen führt. 300 XP verwendet eine einzigartige Differentialpumptechnologie, um die gesamte Arbeitskammer zu vakuumieren und eine saubere und konsistente Umgebung zu schaffen, in der Ionen implantiert werden. Dies reduziert das Risiko einer Kontamination und sorgt für genaue und konsistente Ergebnisse. VARIAN 300XP verfügt zudem über ein integriertes Partikeldetektions- und Akzeptanzsystem, das eine sofortige und SPC-basierte Endpunktabstoßung von Partikeln während der Implantation ermöglicht. Dies gibt dem Anwender eine größere Kontrolle über den Implantationsprozess und hilft, höchste Qualitätsergebnisse zu gewährleisten. VARIAN 300 XP verfügt zudem über ein automatisiertes Wafer-Positioniersystem, das eine präzise Positionierung und Platzierung von Wafern ermöglicht. Dies reduziert die mit der Implantation verbundene Zeit und Kosten und erhöht die Genauigkeit jeder Implantation. 300XP wurde so konzipiert, dass sie einfach zu bedienen und zu warten ist. Dies macht es hocheffizient und kostengünstig für eine Vielzahl von Anwendungen. Es ist in der Lage, qualitativ hochwertige Ionenimplantationsergebnisse zu produzieren, die die strengsten Anforderungen erfüllen. Infolgedessen ist es die vertrauenswürdigste und zuverlässigste Wahl für viele Halbleiterhersteller.
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