Gebraucht VARIAN 300XP #9232841 zu verkaufen

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ID: 9232841
Implanter, 3"-6" Beam energy: 10-200keV (Extendable to 400keV with doubly charged ions) Throughput: 250 Wafer per hour With 10-second implant Wafer breakage <1: 20000 Wafer cooling: ΔT <100°C at 2.0 w/cm² (Air) ΔT <100°C at 3.0 w/cm² (Helium) Particulate count: <0.15 Particles / cm² for particle size >0.5µ <0.05 Particles / cm² for particle size >1.0µ Wafer handling: Cassette to cassette serial processing Dual end stations Full 100 wafer load Vertical wafer handling Cassette and slot integrity Azimuthal wafer orientation Implant angle 0° or 7° fixed.
VARIAN 300XP ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantierer und -Monitor, der Dosen von energetischen Ionen in einer Vielzahl von Bereichen, Energien und Ladezuständen liefert und überwacht. Dieses System umfasst eine 100 cm lange, 2 cm durchmessende Ionenpistole zur Herstellung von Implantatarten, eine Stufenstrahllinie zur Steuerung der Energie des Ionenstrahls sowie eine integrierte Überwachungskammer und einen Detektor zur Dosis- und Strahlzustandsmessung. Die Pistole verfügt über eine optionale Hochleistungs-Hochfrequenz (HF) -Heizoption, um die Waffenenergie zu erhöhen, und einen mehrachsigen Kollimator, um eine breite Palette von nutzbaren Stromverteilungen zu erzeugen. Die gestufte Strahllinie verwendet Permanentmagnetoptik mit elektrischer Bearbeitung, um den Implantatstrahl von voller Energie auf einige hundert Volt zu steuern, und verfügt über eine Reihe von magnetischen und elektrostatischen Öffnungen, um eine breite Palette von Strahlgrößen von Makro bis Submillimeter zu erzeugen. Die integrierte Monitorkammer verwendet elektrostatische Optik, um den Implantatstrahl beim Durchgang zu fokussieren, und eine Kombination aus sekundärer Elektronenemission, Faraday-Becher und einer Gasionisationskammer, um den Strahlstrom, die Dosisrate und die Gesamtdosis zu überwachen. Die Kammer ist modular aufgebaut und kann auf verschiedenen Größen von Substrat und Wafer eingesetzt werden. Die Kammer ist so konzipiert, dass sie eine hohe Stromdichte ohne Einbußen bei der Auflösung bietet, wobei einzelne Wafergrößen bis zu 200 mm unterstützt werden. Die Monitorkammer enthält ein erweitertes Softwarepaket zur Steuerung des Implantatprozesses mit Optionen zur manuellen Anpassung der Strahlparameter an die gewünschten Ergebnisse sowie zur Fernsteuerung des Systems und zum Elektronenstrahlschreiben. Darüber hinaus verfügt das System über umfassende Sicherheitsfunktionen mit Hard- und Software-Interlocks, die jederzeit einen sicheren Betrieb gewährleisten. VARIAN 300 XP ist ein zuverlässiges und leistungsstarkes Werkzeug für die Herstellung hochwertiger Ionenimplantate und dank seiner integrierten Monitorkammer und Softwarepakete ideal für die hochpräzise Dosissteuerung und Überwachung des Prozesses. Der modulare Aufbau macht es sowohl für großflächige Implantate als auch für hochpräzise Forschungsanwendungen geeignet, während seine Sicherheitsfunktionen und sein umfassendes Softwarepaket für Sicherheit und einfache Bedienung sorgen.
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