Gebraucht VARIAN 300XP #9390703 zu verkaufen
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ID: 9390703
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2004
Implanter, 6"
Dual end stations
Implant angle: 0°-7°
Source type: Freeman ion source
BROOKHAVEN X and Y Scan master amplifiers
Beam energy probe: 0-200 kV
Remote beam monitor on control console
Extraction: 0-35 kV
Standard 300XP grounded platen
Corner cup integration
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 Source rough pump, 3 Phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 B/L Rough pump, Single phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 E/S Rough pump ,Single phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 Load lock pump, Single phase
VARIAN VHS 4 Diffusion source Hi-Vac pump
VARIAN B/L Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump
VARIAN E/S Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump
CTI Compressors
Acceleration / Deceleration power supply kit: -2 kV
AMU: 0-124
Process control terminal: 486 with remote control console
XP scan controller dosimetry system
SDS control system
(4) Gas systems:
(3) MFCs
HP for boron
Fiber optic control interface:
High voltage terminal
Ground level controls
2004 vintage.
VARIAN 300XP ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantierer und -Monitor für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Dieses Gerät ist in der Lage, Ionen mit hoher Geschwindigkeit präzise in eine Vielzahl von Zielen zu implantieren. VARIAN 300 XP ist eine kompakte und vielseitige Maschine, die mit Hilfe von proprietärer Quellkonfiguration und Manipulationssoftware eine Vielzahl detaillierter Prozessanwendungen bereitstellen kann. Das Gerät verwendet ein Drei-Magnet-Design und eine Sechs-Achsen-Bewegungsausrüstung für präzise und genaue Ionen-Implantation. Seine Technologie ermöglicht die Steuerung von beschleunigenden Strahlbreiten bis auf 0,1 mm und ermöglicht präzise Strahlfleckgrößen bis zu 0,03 mm. Zusätzlich erstreckt sich der Strahlstrombereich von 0,01-50 µA. Es verfügt über einen hochempfindlichen kontinuierlichen Strahlstrommonitor mit einem Dynamikbereich von 1-500 pm. Dieses Gerät ist für die Arbeit in einem weiten Prozessbereich mit einem unterschiedlichen Temperaturbereich von 20-400 ° C ausgelegt. 300XP verfügt über eine Zweimodus-Ionenquelle, mit der die gewünschte Strahlenergie und Beschleunigung ausgewählt und der Strahlwinkel gesteuert werden kann. Die Ionenquelle kann entweder auf oxidationsbeständige Modi oder auf maximale Lösemodi abgestimmt werden. Die Vorrichtung verfügt über ein automatisches Ladesystem, das die Eigenschaft des zu implantierenden Substrats genau erfassen und entsprechende Anpassungen des Betriebs und der Strahlkollimation vornehmen kann. 300 XP kann auch eine Vielzahl von Dosen und Energien messen. Das Gerät verfügt über eine erweiterte Steuereinheit, die eine präzise Steuerung der Strahlbreite und des Strahlstroms ermöglicht. Seine Datenerfassungsmaschine kann Dosis und Energie gleichzeitig mit Hilfe einer verbesserten gepulsten Quelle messen. Das Tool kann auch eine Vielzahl von Echtzeitdiagrammen und Berichten zur Analyse von Prozesserträgen und -ausgaben erstellen. VARIAN 300XP ist ein effizientes und zuverlässiges Gut, das eine Vielzahl von Implantationslösungen für die Halbleiterindustrie bereitstellen kann. Sein effizientes und präzises Design macht es zur perfekten Wahl für verschiedene Anwendungen, die Präzision und Genauigkeit erfordern. Seine Vielseitigkeit, Prozessreichweite und Flexibilität machen es für alle Arten von Prozessen in der Halbleiterindustrie geeignet.
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