Gebraucht VARIAN 350D #293641024 zu verkaufen

VARIAN 350D ist ein hochbelastbarer, hochgenauer Ionenimplantierer und Monitor für die Halbleiterwaferbearbeitung. Es ist für hohe Serienbedürfnisse mit einer breiten Palette von Implantationsparametern, hoher Prozessgenauigkeit und niedrigen Betriebskosten konzipiert. VARIAN 350 D ist eine einseitige Vierzonen-Zweiwaffenausrüstung mit VARIAN-Elektronenstrahlquelle und neuer turbinenbasierter Beschleunigertechnologie. Die gepulste Röntgenionisation sorgt für eine optimale Steuerung der Ionenzahlen. Das System umfasst einen 46-Kanal-Bogenkollimator mit präziser Regelung und eine 100 kV variable Druckpistole. Die Strahlfleckengröße des Implantierers ist je nach Bedarf und Substrat einstellbar, mit der Fähigkeit, eine breite Palette von Implantatgeometrien und Strahlprofilen zu erstellen. Das Gerät ist auf Flexibilität und einfache Bedienung ausgelegt. Seine Multi-Station-Schnittstelle ermöglicht die gleichzeitige Steuerung mehrerer Prozesse und ermöglicht so effiziente Implantatläufe. Die Maschine verfügt über intuitive Alarmwarnungen und eine Echtzeit-Rückmeldung der Prozessbedingungen und Parameter während des gesamten Implantatprozesses. Darüber hinaus verfügt 350D über ein fortschrittliches Strahlenergie-Kontrollwerkzeug zur automatisierten Einstellung der Optimierung und Genauigkeit aller Strahlenergieeinstellungen. 350 D hat einen maximalen Strahlstrom von 250 mA, eine maximale Spannung von 75 kV und einen Strahlenergiebereich von 0,2 keV bis 1,0 keV. Eine breite Palette von Substraten kann in jeder Dosisrate implantiert werden, mit einer maximalen Dosisrate von 2000 neV/cm ^ 2.s und einer maximalen Wafergröße von 7 Zoll. Das Asset bietet hohe Genauigkeit, geringe Sputter und verbesserte Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus ermöglichen erweiterte Wartungs- und Diagnosefunktionen die Überwachung der Modellleistung und unterstützen vorbeugende Wartungsarbeiten. VARIAN 350D ist ein zuverlässiger und effizienter Ionenimplantator und -monitor. Seine hohe Genauigkeit und schnellen Implantatzeiten ermöglichen es, anspruchsvolle Substrate zu handhaben und langfristige Kosteneinsparungen und Prozessverbesserungen zu ermöglichen. Seine erweiterten Funktionen und mehrere konfigurierbare Parameter bieten Anwendern die Flexibilität, die erforderlich ist, um modernen Anforderungen an die Halbleiterproduktion gerecht zu werden.