Gebraucht VARIAN 400-10 #9105618 zu verkaufen

VARIAN 400-10
ID: 9105618
High current ion implanters (1) Cassette to cassette end station (1) Research cube end station.
VARIAN 400-10 ist ein Ionenimplantierer und -monitor, der in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wird verwendet, um atomare Teilchen wie Bor, Phosphor und Arsen in Oberflächen und Schichten von Halbleitermaterialien einzubringen. Diese Technik wird als Ionenimplantation bezeichnet und wird verwendet, um Transistoren, Dioden und andere Halbleiterbauelemente zu erzeugen. Zu den Grundkomponenten von 400-10 gehören eine Ionenquellenkammer, ein Ionenstrahlgenerator, ein 3-dimensionales Abtastgerät und ein Faraday-Becher. Die Ionenquellenkammer beherbergt das zu implantierende Zielmaterial sowie stellt die Energie der Ionen ein. Der Ionenstrahlgenerator beschleunigt die Ionen, so dass sie in das Zielmaterial implantieren können. Mit der dreidimensionalen Abtasteinrichtung wird eine gleichmäßige Abdeckung des gewünschten Bereichs gewährleistet. Der Faraday-Becher erkennt die Menge des Stroms, der durch den Ionenstrahl fließt, und wird verwendet, um die Dosis der implantierten Ionen zu messen. VARIAN 400-10 ermöglicht eine präzise Kontrolle des Implantationsprozesses. Die Energie und Dosis der implantierten Ionen kann an die Eigenschaften der Zielmaterialien angepasst werden. Die dreidimensionale Abtasteinrichtung ermöglicht eine präzise Abdeckung des gewünschten Bereichs und gewährleistet eine gleichmäßige Tiefe der implantierten Ionen. Zusätzlich kann der Betrieb des Systems überwacht werden, um mögliche Fehler oder Störungen zu erkennen. 400-10 enthält auch mehrere Funktionen, die eine verbesserte Sicherheit und Zuverlässigkeit ermöglichen. Der Ionenstrahl wird in einer Vakuumkammer eingeschlossen, um eine Exposition gegenüber der Umgebung zu verhindern. Darüber hinaus ist die Maschine mit einem fortschrittlichen Alarmsystem ausgestattet, das den Bediener auf mögliche Gefahren aufmerksam macht. Insgesamt ist VARIAN 400-10 ein zuverlässiger und fortschrittlicher Implantierer, der atomare Partikel für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen präzise in Targets einführen kann. Seine präzise Kontrolle über den Implantationsprozess sowie seine Sicherheitsmerkmale machen es zu einer idealen Wahl für Branchenexperten.
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