Gebraucht VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9217499 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9217499
Ion implanter
No SMIFs or dry pumps
Implant dose performance:
Dose range: 2E12 - 1E16, (4E12 – 1E16 ions/cm2 - quad mode)
Uniformity: ≥10 keV, 1 sigma ≤1.0% mean dose across wafer
500 eV to 10 keV, 1 sigma ≤1.5% mean dose across wafer
Repeatability: ≥10 keV, 1 sigma ≤0.7% mean dose of wafers
500 eV to 10 keV, 1 sigma ≤1% mean dose of wafers
Beam parallelism ±1º in X and Y axis for ≥10 keV drift
Ion mass resolution: M/DeltaM > 60 FWHM
Process angles:
Tilt: ±45º; 2 axis; Programable in 1º steps; accuracy ±0.5º
Orientation: 0 - 360º; programable in 1º steps; accuracy ± 1º
Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode
Wafer cooling:
Gas cooled electrostatic platen
200mm < 100ºC @ 800 W beam power
300mm < 100ºC @ 1200 W beam power
Particulate control:
Frontside: ≤0.15 particles added/cm2@ ≥0.16μm particles
Max throughput (wph): 200mm, 300mm
Min 2 scans (4 passes): ≥250, ≥230
Wafer handling:
Backside pick and place wafer orientation
Load locks:
(2) Independent cassette load locks
FOUP/cassette buffer compatible – 4 SEMI E15.1-0298 load ports
AGV compatible
SMIF compatible
Wafer breakage: MWBB 1:100,000
Metals contamination:
Al < 50ppm of implanted dose
Transition and heavy metals (Fe, Cr, Ni, Cu) < 5ppm of implant dose
1999 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 ist ein Ionenimplantator und Monitor, der das Einbringen und Entfernen von Ionen in und aus Halbleitermaterialien genau kontrollieren soll. Diese fortschrittliche Ausrüstung bietet Benutzern ein zuverlässiges und hochgenaues Werkzeug, das verwendet werden kann, um Hochleistungs-Halbleiterbauelemente aus einer Vielzahl von Materialien zu erstellen. AMAT VIISta 80 Ionen Implantierer und Monitor verfügt über ein robustes Design mit einem eingebauten Interlock-System, das einen schnellen und sicheren Betrieb ermöglicht. Dieses Gerät verfügt auch über eine proprietäre Elektronenstrahl-Fensteroption, die es Anwendern ermöglicht, schnell optimale Implantattiefen für ihre Anwendungen zu erreichen. VARIAN VIISta 80 nutzt eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen, um die maximale Genauigkeit und Präzision beim Implantieren von Ionen zu gewährleisten. Es ist mit ausgeklügelten Algorithmen ausgelegt, die eine adaptive Anpassung von Ionenimplantatraten, Ionenstrahlausrichtung und Prozessparametern ermöglichen. Darüber hinaus verfügt es über eine fortschrittliche Wafer-Ausrichteinheit, die ständig auf Genauigkeit und Präzision überwacht wird. Zur Überwachung verwendet VIISta 80 optische Echtzeit-Strahlprofilierung, die Anwendern die genauesten Messwerte über Ionenkonzentrationen in ihren Materialien liefert. Diese leistungsstarke Maschine enthält auch einen verbesserten Strahlbetrachter, mit dem Benutzer die Ionenkonzentrationen ihrer Materialien genauer analysieren können. ANGEWANDTE MATERIALIEN VIISta 80 ist mit einer Reihe von Schutz- und Sicherheitsmaßnahmen ausgestattet, um die Exposition gegenüber gefährlicher Strahlung und elektrischem Schock zu minimieren. Darüber hinaus ist das Gerät so konzipiert, dass es den branchenüblichen Sicherheitsstandards vollständig entspricht. Insgesamt ist VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 ein fortschrittlicher Ionenimplantator und Monitor, der den Anwendern optimale Leistung und Zuverlässigkeit beim Injizieren oder Entfernen von Ionen aus Halbleitermaterialien bietet. Dieses robuste Werkzeug bietet eine Reihe von Präzisionskontrollfunktionen, Schutzmaßnahmen und Strahlmonitoren, um höchste Qualitätsergebnisse und eine sichere Arbeitsumgebung zu gewährleisten.
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