Gebraucht VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9218042 zu verkaufen

VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 ist ein Ionenimplantierer und -monitor, der als vollautomatisches Gerät zur Implantation und Analyse in Halbleiterherstellungsprozessen aufgebaut ist. Es verfügt über fortschrittliche Implantattechnologie zur Erfüllung branchenüblicher Leistungsanforderungen sowie über ein integriertes Wafer-Handling-Teilsystem. Diese Einheit bietet eine hochgenaue und präzise Dosisverteilung und Gleichmäßigkeit. Es ist in der Lage, hohe Ionenflussraten und zuverlässige Gleichmäßigkeit bei der Implantation bereitzustellen. AMAT VIISta 80 ist mit zwei unabhängigen Ionenquellen ausgestattet, die thermische Emitter und zusätzliche Ionenquellen wie D-11 und E-30 Trioden, HF-Gaszufuhr und Röntgenstrahler enthalten. Diese Komponenten wurden entwickelt, um präzise Dosen in einer Vielzahl von Implantationsbedingungen zu produzieren. Die Maschine umfasst auch ein automatisiertes Wafer-Handling-Subsystem, das mit mehreren Robotern ausgestattet ist, und eine bewegliche Brücke, mit der Werkstücke zwischen dem Ionenimplantierer und dem Analysewerkzeug übertragen werden können. Das Automatisierungs-Asset verwendet Mustererkennungssoftware, um den Wafer auf der Brücke richtig zu orientieren und die genaue Bedienung der mehreren Werkzeuge zu erleichtern. VARIAN VIISta 80 ist sowohl zur Einzelwafer- als auch zur Mehrfachwafer-Implantation in der Lage. Es verfügt auch über ein pulsierendes Modell, das für gleichmäßige oder ungleichmäßige Dosen eingestellt werden kann, um eine optimale Implantation zu gewährleisten. Das Gerät umfasst weiterhin Optimierungsroutinen sowohl für die Einzelwafer- als auch für die Mehrfachwafer-Implantation. Darüber hinaus bietet das System erweiterte Monitorfunktionen wie Strahlstrom, Temperatur, Dynamikbereich und Strahlintensitätsberichterstattung. Mit diesem Reporting-Tool können Anwender das Strahlprofil, die Leistung und die Dosissteuerung des Implantierers beurteilen. Angewandte Materialien VIISta 80 ist ein hocheffizientes und zuverlässiges Werkzeug für die Implantation und Analyse in der Halbleiterherstellung. Es verfügt über fortschrittliche Eigenschaften, die eine optimale Implantation, präzise Dosisverteilung und zuverlässige Gleichmäßigkeit gewährleisten. Darüber hinaus bieten die Überwachungsfunktionen eine umfassende Analyse und Berichterstattung, die es Anwendern ermöglicht, die Leistung zu optimieren und eine enge Prozesskontrolle aufrechtzuerhalten.