Gebraucht VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9243147 zu verkaufen

VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und Monitor für Halbleiterherstellungsprozesse. Seine erweiterten Funktionen ermöglichen es dem Benutzer, die Ionenstrahlenergie, den Winkel und die Stromdichte genau zu steuern. Dies ermöglicht eine hochpräzise Dotierung der im Herstellungsprozess verwendeten Substratmaterialien. AMAT VIISta 80 verfügt über ein vierachsiges Abtastsystem zur schnellen, genauen Ausrichtung des Ionenstrahls auf das Substratmaterial. Es bietet auch mehrere verschiedene vom Benutzer wählbare Betriebsarten, einschließlich Batch-Verarbeitung, Multi-Pass-Verarbeitung und benutzerdefinierte Implantation. Zusätzlich kann der Ionenstrahl an die spezifischen Anforderungen der Anwendung angepasst werden. VARIAN VIISta 80 verfügt auch über eine Reihe von Überwachungsfunktionen. Es umfasst einen Strahlstrommonitor, einen Implantatstrommonitor, Temperatur- und Drucksensoren sowie einen Röntgenmonitor zur Visualisierung der Implantattiefe. Es überwacht auch die Gleichmäßigkeit der Implantattiefe über die Waferoberfläche. Der Zwischenmassenfilter (IMF) von APPLIED MATERIALS VIISta 80 ermöglicht eine präzise Filterung der implantierten Ionenstrahlen. Es hilft, unerwünschte Ionenarten wie Spurenatome oder schwere Partikel zu beseitigen und sicherzustellen, dass nur die gewünschte Spezies in das Substrat implantiert wird. Dies hilft, Implantatschäden zu minimieren und liefert ein hochwertiges Dotierungsniveau. Die Software von VIISta 80 ermöglicht die Optimierung von Prozessbedingungen. Es kann verwendet werden, um verschiedene Parameter, wie Gasdrücke und Spannungen, für optimierte Substrate zu steuern. Es kann auch verwendet werden, um Rezepte für optimale Verarbeitungsbedingungen zu erstellen und zu speichern. Darüber hinaus erleichtert die VIISta-Softwareschnittstelle die Erstellung detaillierter Systemleistungsberichte. Kurz gesagt, VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und Monitor, der für Halbleiterherstellungsprozesse optimiert ist. Seine Vier-Achsen-Scan-Fähigkeiten, anwenderwählbaren Betriebsarten, Überwachungsfunktionen, Zwischenmassenfilter und optimierte Software machen es zu einem leistungsstarken Werkzeug für die präzise Dotierung der im Herstellungsprozess verwendeten Substratmaterialien.