Gebraucht VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9260239 zu verkaufen

VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantierer und -Monitor. Es wurde entwickelt, um höchste Präzision und Genauigkeit für die Implantation zu bieten, ein wesentlicher Schritt in der Halbleiterherstellung. AMAT VIISta 80 bietet eine breite Palette von Funktionen, darunter hochpräzise Ionenquellen-Positionierung, einen Source-to-Sample-Entfernungsbereich von bis zu 20 cm, eine breite Palette von Ionenimplantationsenergien, eine integrierte Plasmaquelle, fortschrittliche Kühl- und Nachbildungssysteme und ein In-situ-Prozess Monitoring-Paket. VARIAN VIISta 80 basiert auf einer fortschrittlichen industriellen Automatisierungsplattform, die einen effizienten Betrieb mit einer Vielzahl modernster Funktionen ermöglicht. Das Ionenquellen-Positioniersystem ermöglicht eine hochpräzise Positionierung der Ionenquelle relativ zur Probe, was eine beispielhafte Gleichmäßigkeit des implantierten Materials ermöglicht. Der Entfernungsbereich von Quelle zu Probe von bis zu 20 cm bietet Anwendern beispiellose Flexibilität bei der Wahl der Ionenimplantation. Darüber hinaus bietet die Maschine eine Vielzahl von Ionen implantierenden Energien, so dass der Betrieb mit einer erweiterten Palette von Materialien und Anwendungen. VIISta 80 enthält eine integrierte HF-Plasmaquelle, die Temperaturen von bis zu 5.000 K erzeugen kann und die Geschwindigkeit und Präzision der Zufuhr von Ionen zur Probe drastisch erhöht. Die Maschine ist mit einem zweistufigen Reaktorprozesskühl- und Nachbearbeitungssystem ausgestattet, das einen konsistenten Betrieb und eine effiziente Energienutzung gewährleistet. Darüber hinaus sorgt ein fortschrittliches In-situ-Überwachungspaket für kontinuierliche Leistung und Rückmeldung aus dem Implantationsprozess, ermöglicht einen technischen Einblick in den Betrieb des Implantierers und fördert eine höhere Implantationsqualität und erhöhte Produktivität. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS VIISta 80 die ideale Maschine zur hochpräzisen Ionenimplantation mit beispielloser Genauigkeit und Effizienz. Seine fortschrittliche Automatisierungsplattform, sein breites Spektrum an Ionenimplantationsenergien, seine integrierte Plasmaquelle und sein zweistufiges Reaktorprozesskühl- und Nachbildungssystem machen es zur optimalen Wahl für Halbleiterhersteller. Darüber hinaus bietet das In-situ-Prozess-Überwachungspaket Echtzeit-Feedback zum Implantationsprozess, was eine außergewöhnliche Kontrolle und Qualitätssicherung ermöglicht.