Gebraucht VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80HP #293630184 zu verkaufen

VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80HP Ionenimplantator & Monitor ist ein fortschrittliches Gerät zur präzisen Steuerung des Dotierstoff- und anderer Ionenimplantationsprozesse. Es ist eine kompakte Ausrüstung, die sowohl hohe Leistung als auch hohe Genauigkeit bietet. Das System besteht aus einer Hochspannungsversorgung, einer Ionenquelle, einer Strahlanalyse und Steuereinheit, einer Temperaturregelmaschine, einer Abschirmung und einem Ionenstrahlmonitor. Das Netzteil hat eine maximale Spannung von 1.000 kV und liefert bis zu 80kW Implantatleistung. Es verfügt außerdem über eine hochfrequente Vorspannungsfähigkeit für eine verbesserte Gleichmäßigkeit des implantierten Bereichs. Das Netzteil enthält auch eine automatisierte Diagnosefunktion, mit der Unregelmäßigkeiten im Prozess erkannt werden können. Die Ionenquelle liefert ein kontrolliertes und stark lokalisiertes Plasma, das zur Erzeugung von Strahlstromdichten bis 25mA/cm2 verwendet werden kann. Das Strahlanalyse- und Kontrollwerkzeug nutzt eine ausgeklügelte Partikeloptik, um sicherzustellen, dass nur die gewünschten Partikel implantiert werden. Die Temperiereinrichtung ist in der Lage, die optimalen Temperaturbedingungen für den Implantationsprozess aufrechtzuerhalten. Es enthält auch ein Wärmebildkameramodell, das eine Überwachung der Quelltemperatur während der Implantation ermöglicht. Die Abschirmausrüstung besteht aus fortschrittlichen Materialien und Abschirmungskonstruktionen, die einen hervorragenden Schutz vor Strahlung bieten und sicherstellen, dass nur harmlose Reststrahlungswerte das Verriegelungssystem erreichen können. Der Ionenstrahl-Monitor misst kontinuierlich die Strahlparameter einschließlich Strom, Energie und Position und liefert eine Rückkopplung zur Einstellung des Strahls, um unerwünschte Ungleichförmigkeiten im Implantat zu verringern. Insgesamt ist AMAT VIISta 80HP Ionenimplantator & Monitor eine Hochleistungseinheit, die eine präzise Steuerung der Ionenimplantationsprozesse ermöglicht. Es ist eine zuverlässige und vielseitige Vorrichtung für den Implantat-Schritt in der Halbleiterherstellung, bietet eine breite Palette von Strahlstrom- und Leistungseinstellungen und eine umfassende Reihe von Sicherheitsmerkmalen.