Gebraucht VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta HC #293651987 zu verkaufen
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ID: 293651987
Wafergröße: 8"-12"
Weinlese: 2005
Ion implanter, 8"-12"
Process chamber
Pumps not included
Source head: Advance 54mm
ESC (Platen): COMP II
Roplat tilter assembly
UES2 Process endstation
Load locks:
Dual, 25 Wafer capacity
Polished integrated loadlock
Self aligning atmospheric door
4-Wafer walk out sensors in pass through cassette
Through-beam wafer mapping sensor
BROOKS DBM- 2076V2 Buffer robot with track movement
ESC Controller:
P/N: E19283790
MFC / Pressure unit: Argon, BF3, AsH3, PH3
Drive mechanism:
E11320430 Orientor assembly
VAC-407 IN VAC Arms
Foups/Load ports: 4-FOUP Complies
Module:
Gas module 1: Argon
Gas module 2: BF3
Gas module 3: AsH3
Gas module 4: PH3
Power supply: 3 Phase, 208 VAC
2005 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta HC ist ein Hochstrom-Ionen-Implantierer und -Monitor, entwickelt, um eine hohe Produktivität mit überlegener Prozesskontrolle und Zuverlässigkeit zu bieten. Es kombiniert eine Vielzahl von Technologien, um eine überlegene Leistung zu ermöglichen, einschließlich eines Hochspannungsnetzteils, eines Hochstromstrahleinspritzgeräts und eines fortschrittlichen Überwachungs- und Steuerungssystems. Das Hochstromnetzteil bietet einen großen Dynamikbereich von bis zu 3 μ A bis 45 keV für dünne und dicke Substrate bis 200 mm Durchmesser. Die Konstruktion der Injektionseinheit sorgt für einen genauen Partikelfluss und die Stromzufuhr und ermöglicht konsistente und wiederholbare Implantate. Es bietet auch eine digitale Regelung aller wichtigen Parameter, wie Energie, Strom, Strahlwege und Abtastgeschwindigkeiten. Die fortschrittliche Überwachungs- und Steuerungsmaschine wurde entwickelt, um die Probenqualität zu maximieren und den manuellen Eingriff zu minimieren. Es verfügt über mehrere Sensoren zur Prozessüberwachung, einen programmierbaren Logikcontroller zur Schnittstelle zum Implantatcontroller und eine interaktive Steuerschnittstelle für benutzerdefinierte Parameter. Darüber hinaus sorgt die Implementierung des Werkzeugs für hochgenaue Implantationszeiten und eine verbesserte Gesamtprozesskontrolle. AMAT VIISta HC Ion Implanter and Monitor wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Anforderungen an Gleichmäßigkeit, Durchsatz und Kapazität zu erfüllen. Es wurde entwickelt, um den Durchsatz zu erhöhen und das Produktionsniveau zu verbessern sowie die strengsten Spezifikationen zu erfüllen. Darüber hinaus ist es für eine einfache Wartung und Prozessoptimierung für unterschiedliche Produktionsanforderungen ausgelegt. Darüber hinaus bietet es digitale Signalverarbeitung und Datenanzeige, um eine präzise Analyse für optimale Implantatergebnisse zu gewährleisten.
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