Gebraucht VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2 #9203300 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9203300
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
High dose implanter, 12"
Single wafer plasma doping system
(2) VIISta PLAD process modules
Plasma implant voltage range: 200V to 10kV
Using precision pulsed DC supply
Programmable ramped wafer bias for optimum dopant profile control
High density plasma generation
Control system
Real-time magnetically suppressed Faraday closed loop dose control system
Electrostatic wafer platens
With He backside gas cooling
Automated pressure control system
Base system includes
Power distribution: 50/60 Hz
VIISta single-wafer end station & tool control
Dual wafer capacity: 25
Polished load locks
Independent vacuum control
High voltage power supply drivers
Uninterruptible power supply
Transport module vacuum chamber
Dual vacuum robots
Horizontal motion control
Backside pick-and-place wafer handling
Orientation & centering station
Automatic pumping system:
(2) PFEIFFER 1201 Turbo-molecular pumps
One per process module
(2) PFEIFFER 261
Turbo-molecular pumps
Remote rack assembly:
Plasma power supply drivers
Deionized water recirculation system
Power distribution panel to support all controllers & sub-systems
Remote cabling ten meters
Rack space for mechanical dry pumps
VCS Runs on the Microsoft Windows NT / Windows 2000
Multitasking operating system
Process gas control module
Standard 4 channel gas module including three toxic
One inert gas
5 Channels per process module
System I/O: VARIAN control system
SEMI S2-0200 & S8-0701 compliant
VIISta factory automation
S-series buffer with 4 load ports
Direct-drive atmospheric robot & thru-beam mapping capability
Facilities from bottom
Factory automation kit brooks S-series EFEM
With vision loadports
Operation: 60 Hz
Gas box: 5 Channels per chamber
Process gas input from the bottom: 5 Channels
Left process chamber for CH4 left process chamber for CH4
Right process chamber for AsH3/PH3
Configure system for right chamber to run AsH3 and PH3 process
Label kit
POC UHP Roof
Standard remote module
T2 15m remote harness
Hose kit T2 15m remote harness
T2 15m remote hose kit
2007 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2 ist eine hochmoderne Ionenimplantat- und Monitorausrüstung, die von einem der weltweit führenden Halbleiterausrüster entwickelt und hergestellt wurde. Es verfügt über ein einzigartiges integriertes In-Vakuum-Implantationssystem, das homogene und effiziente Ionenimplantationsdosen erzeugen kann. AMAT VIISta PLAD T2 verfügt über eine vollautomatisierte Softwareeinheit, die präzise Implantationsprofile für nahezu jede Anwendung ermöglicht. Die Maschine bietet einen integrierten Strahlprofil-Monitor mit einer breiten Palette von Messfähigkeiten, so dass Kunden den Implantationsprozess genau überwachen können, um Sicherheit, Geräteausbeute und Prozessoptimierung zu gewährleisten. VARIAN VIISta PLAD T2 bietet eine vollständig anpassbare Plattform, um den Anforderungen einer Vielzahl von Implantationsprozessen gerecht zu werden. Es kann die Integration mit anderen AMAT-Systemen unterstützen, wie Scans zum Scannen von Überwachungswerkzeugen, Ionenfilmdickenmonitoren und Temperaturreglern. ANGEWANDTE MATERIALIEN VIISta PLAD T2 verfügt über ein hochauflösendes 360 ° -Bildgebungswerkzeug. Dieser Vorteil ermöglicht die Erzielung höchster Implantationsprofile bei gleichzeitiger Gewährleistung präziser und wiederholbarer Ergebnisse. VIISta PLAD T2 beinhaltet auch einen fortschrittlichen Schaltschrank mit einem integrierten Stromversorgungsmodell mit unübertroffener Stabilität, Genauigkeit und Zuverlässigkeit. VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2 Monitore verfügen über eine verbesserte Prozesssteuerung und Echtzeit-Alarmierungsfunktionen sowie die Integration mit anderen Systemen für eine erhöhte Automatisierung. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine patentierte Compact Implant Source Technology, die die Implantatgeometrie verbessern, die Drift reduzieren und die Prozessgleichmäßigkeit verbessern soll. Das System bietet Anwendern zudem ein breites Spektrum an Überwachungs-, Anpassungs- und Analysefähigkeiten zur Messung von Strahlform und Schwankungen, um den optimalen Betrieb der Einheit jederzeit zu bestätigen. Zusammenfassend ist dieVIISta PLAD T2 eine hochmoderne Ionenimplantations- und Überwachungsmaschine von VARIAN. Es bietet eine vollständig anpassbare Plattform mit integrierter Strahlprofilüberwachung, Prozesssteuerung und Alarmierungsfunktionen, hochauflösender Bildgebung und integrierter Stromversorgung. Darüber hinaus verfügt es über Compact Implant Source Technology, die die Implantatgeometrie verbessern, Drift reduzieren und die Prozessgleichförmigkeit verbessern soll. Alle diese Funktionen kommen zusammen, um ein hochmodernes Werkzeug zu schaffen, das präzise und wiederholbare Implantationsergebnisse effektiv und effizient liefert.
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