Gebraucht VARIAN CF 3000 #9242115 zu verkaufen
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ID: 9242115
Ion implanter
AGILENT VHS-4 Diffusion pump
Gas box with (3) sources of admixtures in the form of BF3, PH3 & AsH3 gases in praxair up-time system, horiba massometers
Power source
(3) ADIXEN Rotary pump
Compressor with (2) cryoplex & (8) OXFORD pumps
Hycool wheel
Freeman source
DI Water station: Transition from freon cooling to cooling with de-ionized water
Scanners from IBS cooled with air
Range of energy: <20keV to >120keV
Range of dose: 2e11 cm^-2 to 6e15 cm^-2.
VARIAN CF 3000 Ion Implanter & Monitor ist ein von VARIAN, Inc. Es ist der fortschrittlichste Ionenimplantierer der Welt, der in der Lage ist, maximale Flexibilität, Zuverlässigkeit und Leistung in einem kompakten Design zu bieten. Es ist ein Multi-Source-Multi-Target-Gerät, das kostengünstig, mit einfach und schnell einstellbaren Parametern konzipiert ist. Das Gerät ist mit einer einzigartigen Ionenquelle zur unabhängigen Steuerung spezialisierter Ionenimplantationsparameter ausgestattet. Diese Quelle hat einen Strahlstrombereich von 1-10mA und einen Strahlenergiebereich von 0-7.000 eV, wodurch jeder Implantationsprozess präzise gesteuert werden kann. Seine Strahlstromdichte kann bis zu 600A/cm ² reichen, was ihm die Fähigkeit gibt, breite Bereiche von Implantationsprozessen durchzuführen. Diese Quelle wurde entwickelt, um höhere Stromimplantationsprozesse bei kürzeren Verweilzeiten für mehr Präzision bei Anwendungen mit kritischen Parametern bereitzustellen. VARIAN CF3000 verfügt über ein modernes Monitordesign zur schnellen und präzisen Messung von Substratparametern bei der Entwicklung des Implantationsprozesses. Der Monitor kann Parameter wie Implantattiefe, Substrattemperatur, Ionenstrahlströme und -energien, Substratgröße und mehr messen. Der Monitor hat eine geringe Standfläche und einen erweiterten Tiefenbereich, der es ermöglicht, in eine kleine Vakuumkammer zu passen, was wertvollen Platz im Labor spart. Das System ist mit einer aktiven Plattform ausgestattet, die für eine ultraglatte Bewegung des Wafers in 6-Achsen ausgelegt ist, einschließlich horizontaler, vertikaler, rotatorischer und Kippbewegung. Dies wird durch eine benutzerfreundliche und intuitive Softwareschnittstelle gesteuert, die eine einfache Manipulation des Wafersubstrats ermöglicht. Es verfügt auch über eine hochpräzise Temperaturregelung und ein aktives Kühlsystem, um konsistente und präzise Ergebnisse zu gewährleisten. CF-3000 verfügt zudem über ein kompaktes Design mit integrierter Stromversorgung, um wertvolle Laborräume zu sparen und die Betriebskosten zu senken. Das Gerät ist für jahrelangen, zuverlässigen Einsatz wartungsfrei konzipiert, mit einem verlängerten Lebenszyklus, der Genauigkeit und langfristige Produktivität gewährleistet. CF3000 eignet sich ideal für Laborumgebungen, in denen eine präzise Steuerung von Implantationsparametern erforderlich ist, wie im Halbleiterbau sowie im Forschungs- und Entwicklungsbereich. Dies ist ein ideales Gerät für diejenigen, die einen kostengünstigen und vielseitigen Implantierer mit maximaler Präzision und Kontrolle suchen.
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