Gebraucht VARIAN DF4 #9161508 zu verkaufen

VARIAN DF4 ist ein Ionenimplantator und -monitor zur präzisen Ionenimplantation. Es ist ein Hochleistungsimplantierer, der die Zuverlässigkeit und Konsistenz des Implantationsprozesses in der Halbleiterindustrie verbessert. Das Gerät verwendet einen Hochspannungs-HF-Generator, Beschleuniger und Beamline-Komponenten, um hohe Ströme bis zu 150mA und Energien bis zu 32 keV für schwere Ionen zu ermöglichen. Diese Komponenten erzeugen ein selbstausgleichendes Strahlausbreitungssystem, das die Genauigkeit in dynamischen Strahlen für maximale Genauigkeit und Wiederholbarkeit gewährleistet. Die Einheit unterstützt Ionen wie Schwefel, Stickstoff, Bor, Phosphor und Arsen und kann sowohl mit DC&RF Bias von 1MHz & 500kHz arbeiten. Der HF-Generator ermöglicht die Auswahl unterschiedlichster Implantatbedingungen zur Optimierung des Ionenimplantationsprozesses. Darüber hinaus ist der HF-Generator in der Lage, einen HF-Bias-Schalter einzubauen, der die HF-Bias-Spannung während des Implantatprozesses aktiv einstellt, um die Implantatbedingungen zu optimieren. Die hohen Durchsatzleistungen von DF4 machen es auch zu einer kostengünstigen Lösung für viele Halbleiterproduktionsprozesse. Die Maschine ermöglicht eine hohe Implantatdosis von bis zu 40 um/min für gezielte Bereiche und kann mit verschiedenen Druck- und Gasarten arbeiten. Dies ermöglicht den Einsatz in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen. VARIAN DF4 verfügt über eine robuste, hochwertige Handwerkskunst, die seinen Nutzen und seine Haltbarkeit verbessert. Es verfügt über ein ergonomisches Design, das aus mehreren Montagepunkten und verstellbaren Füßen besteht, um eine sichere und sichere Verwendung des Geräts auf einer Vielzahl von Substraten zu gewährleisten. Die Beamline unterstützt einen maximalen Strahlstrom von 18 nA und besteht aus robusten Vakuummaterialien für maximale Langlebigkeit des Gerätes. Das Tool umfasst eine fortschrittliche Überwachungsanlage, die in der Lage ist, kontinuierlich Berichte über den Implantatprozess zu überwachen und zu erstellen, um eine präzise Kontrolle über jede Produktionsumgebung zu gewährleisten. Das Überwachungsmodell umfasst eine Vakuumsteuereinrichtung, die alle Vakuumparameter wie Druck, Temperatur und Gasdurchfluss überwacht. Dies liefert Echtzeit-Feedback an den Bediener, um die Genauigkeit des Implantatprozesses zu gewährleisten. Das Überwachungssystem kann auch über die Parameter Ionenquellenprofil, Beamline und Zielkonfiguration berichten. Insgesamt ist DF4 ein vielseitiger und zuverlässiger Ionenimplantator und Monitor, der sich perfekt für präzise Ionenimplantationsprozesse im Halbleiterproduktionsbereich eignet. Es ist fortschrittliche Überwachung und HF-Generator-Einheit bietet Echtzeit-Feedback für präzise gesteuerte und genau wiederholbare Implantat-Prozesse. Seine robuste Konstruktion und die verstellbaren Füße machen das Gerät ideal für jede Produktionsumgebung und seine hohen Durchsatzmöglichkeiten ermöglichen eine kostengünstige Lösung für Ionenimplantationsanforderungen.