Gebraucht VARIAN Disk for 160XP #9412732 zu verkaufen

VARIAN Disk for 160XP ist eine Hochleistungs-Ionen-Implantat- und Monitor-Ausrüstung. Es wurde entwickelt, um eine präzise und genaue Implantation von Ionen in Substrate wie Halbleiterscheiben zu ermöglichen. Das System ist in der Lage, Ionenenergien, Ionendosen und Strahlprofile zusammen mit dem Strahlstrom genau zu steuern und zu messen, was eine optimale Verarbeitung von Materialien ermöglicht. Disk for 160XP ist zudem mit einer ausgeklügelten internen Steuerungs- und Überwachungssoftware ausgestattet, die eine präzise Prozesssteuerung und -analyse ermöglicht. VARIAN Disk für 160XP Einheit besteht aus zwei Hauptkomponenten; die Festplatte und die 160XP Ionenquelle. Die Scheibe ist eine vakuumisolierte, nichtmagnetische Kammer, in der die Ionenstrahlabgabe- und Überwachungskomponenten der Maschine untergebracht sind. Die 160XP Ionenquelle ist eine elektronenstrahlgesteuerte Quelle, die speziell für die Implantation von Ionen bei hohen Stromdichten mit präziser Energiesteuerung entwickelt wurde. Es ist sehr zuverlässig und hat eine geringe Wartungskosten. Disk for 160XP bietet eine präzise Steuerung des Ionenstrahls auf vielfältige Weise. Es ist in der Lage, die Energie der implantierten Ionen und ihre Ankunftszeiten zu steuern und zu regulieren. Der Energiebereich von VARIAN Disk für 160XP kann bei 200 keV liegen und ist somit ideal für die Verarbeitung einer Vielzahl von Wafermaterialien geeignet. Zusätzlich kann die Disk den Ionenstrahl exakt positionieren und abtasten, um das gewünschte Implantatprofil auf dem Wafer zu erzeugen. Die 160XP Ionenquelle ist in der Lage, höhere Stromdichten als andere Quellen zu erzeugen, was eine schnellere Implantationsabdeckung ermöglicht. Dies führt zu einer erhöhten Produktivität beim Implantieren von Substraten. Die Ionenquelle wurde auch entwickelt, um neutrale Hintergrundpartikel zu minimieren, die Verunreinigungsrate zu reduzieren und eine sauberere Abscheidung von Ionen zu ermöglichen. Disk for 160XP ist ein leistungsstarkes Ionen-Implantier- und Überwachungswerkzeug, das eine präzise und genaue Steuerung des Ionenstrahls ermöglicht. Die ausgeklügelte interne Steuerungs- und Überwachungssoftware ermöglicht eine präzise Prozesssteuerung und -analyse. VARIAN Disk for 160XP ist das ideale Werkzeug, um eine Vielzahl von Wafermaterialien mit höheren Stromdichten zu implantieren, was zu einer erhöhten Produktivität führt.