Gebraucht VARIAN E1000 #158184 zu verkaufen

VARIAN E1000 ist eine komplette Ionenimplantations- und Überwachungseinrichtung, mit der hochreine, präzise und konsistente Dotierstoffprofile bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen hergestellt werden. Das VARIAN E-1000 System bietet umfassende Flexibilität, um Ionenimplantationsprofile zu entwickeln, auszuwählen und zu optimieren, um die heute immer komplexeren Fertigungsprozesse zu unterstützen. Es kombiniert fortschrittliche Strom- und Quelltechnologie mit einer leistungsstarken Steuereinheit und hochauflösendem Produktfeedback. Die verbesserte Strom- und Quellkonfiguration der Strahlungsleitung E 1000 erzeugt Hochgeschwindigkeitsleistung mit Hochstrahlstrom und Partikelgleichförmigkeit. Eine programmierbare Hochspannungsversorgung mit Autokalibrierung sorgt für überlegene Prozesssteuerung und Wiederholbarkeit, während die Beamline-Mapping-Technologie Winkelverteilungen berücksichtigt, um genaue, wiederholbare Strahlgenauigkeit zu gewährleisten. Hochauflösende Ionenstrahlprofilierungssensoren ermöglichen eine präzise Überwachung von Implantatprofilen zur Prozessoptimierung. Die umfassende Steuerungsmaschine von E1000 bietet Automatisierung und effiziente Datenverarbeitungsfunktionen, die eine einfache Prozessentwicklung, -einrichtung und -optimierung ermöglichen. Mit Hilfe eines Echtzeit-Steuerwerkzeugs führt VARIAN E 1000 Strahlmodulation, Strahlwölbung und andere adaptive, dynamische Steuerungsfunktionen aus, um die Strahlleistung zu optimieren. Darüber hinaus ermöglichen die fortschrittlichen Multiplexfunktionen von E-1000 simultane Implantate verschiedener Spezies mit einheitlichen Dosen und Energien. Das hochauflösende Produktfeedback von VARIAN E1000 sorgt für zuverlässige, konsistente Produktqualität. Seine hochauflösenden Produkt-Feedback-Systeme helfen, Implantat-Profil Probleme und andere Parameter zu identifizieren. Darüber hinaus ermöglicht die fortschrittliche Prozessüberwachungssoftware von VARIAN E-1000 den Betreibern die Überwachung, Diagnose und Fehlerbehebung von Beam-Process-Problemen in Echtzeit, was eine Prozessoptimierung und verbesserte Betriebszeit ermöglicht. E 1000 ist für eine flexible, präzise und zuverlässige Ionenimplantation ausgelegt. Der robuste Funktionssatz, die integrierte Steuerung und das hochauflösende Produktfeedback sorgen für überlegenen Durchsatz, Wiederholbarkeit und Produktqualität für die anspruchsvollsten Anwendungen.