Gebraucht VARIAN E1000 #158386 zu verkaufen

VARIAN E1000 ist ein Ionenimplantator und -monitor, der in der Lage ist, genaue Ionenimplantationsprofile für die anspruchsvollsten Halbleiterforschungs- und Fertigungsvorgänge zu erzielen. VARIAN E-1000 wurde entwickelt, um Ionen auf hohem elektrischem Feld und Fließfähigkeit zu implantieren, die für die Einarbeitung in eine Reihe von Materialien erforderlich sind. Der Implantator verfügt über eine hohe Reproduzierbarkeit von Strahlenergieverteilung, Fließprofilen und Überwachungsempfindlichkeit auf Energieniveau. Die Geräte können auf Implantat-Ionenarten mit positiver oder negativer Ladung von Wasserstoff bis Uran zugeschnitten werden, während die Implantat-Energie- und Strahlstrombereiche ein vielfältiges Spektrum an Implantatenergien und -dosen ermöglichen. Durch effiziente Strahloptik kann das E 1000-System Strahlen streng definierter Spezies und Energien mit hoher Wiederholbarkeit auf Substraten erzeugen, die größer als die 12-Zoll-Designgrenze sind. Der Strahlstrom ist über einen weiten Bereich einstellbar und während der Implantation auf einem stabilen Niveau gehalten. VARIAN E 1000 verfügt über eine Strahlanalyse und bildgebende Einheit zur Charakterisierung implantierter Spezies. Diese Maschine enthält eine Quarzkristall-Mikrowaage zur Messung des Ionenstroms sowie einen Faraday-Becher, dessen Betriebsart den Strahlstrom vor und nach dem Beschleunigungsspalt anzeigt. Das Profil der Implantation wird in situ durch einen innovativen Dual Collector Detector (DCD) überwacht. Die DCD kann sowohl Ionen mit einem Energiebereich von bis zu 40KeV als auch Elektronen bis zu 1MeV messen. Dieses moderne Werkzeug ermöglicht nicht nur die Einstellung des Implantationsprofils, sondern auch die Überwachung optimaler Parameter und Zustand während des Prozesses. E-1000 ist mit selbstüberwachenden Rückkopplungssteuerungssystemen konzipiert, um die höchste implantierte Dosisgenauigkeit und Präzision zu gewährleisten. Die Feedback-Steuerung verwendet einen Faraday-Käfig als Teil des Strahlbildungs- und Sensormodells, um die Auflösung und Genauigkeit zu erhöhen und gleichzeitig die Dosisrate und die Energieverteilungsvariation zu reduzieren. Dadurch wird sichergestellt, dass die gewünschte Dosisrate und Energieausbreitung während der Implantation kontinuierlich aufrechterhalten wird. Die Komponenten E1000 Ausrüstung umfassen eine Strahlquelle, Teilchenbeschleuniger, Strahloptik, Dual-Kollektor-Detektor, Ionenstrom-Analysator und die Strahlbildungseinheit. Die Maschine enthält auch eine automatische Windows-Schnittstelle für einfache Bedienung. Dieses Tool eliminiert den Aufwand für zusätzliche Operatoren für den Implantationsprozess, wodurch die Betriebskosten weiter reduziert werden. VARIAN E1000 ist ein vielseitiges Produkt für eine hohe Genauigkeit, effiziente und reproduzierbare Ionenimplantation, das eine Vielzahl von Anwendungen bedient. Die fortschrittlichen und innovativen Merkmale dieses Modells haben es Forschern und Herstellern in der Halbleiterindustrie ermöglicht, selbst die komplexesten Projekte für kommerzielle Anwendungen zu entwickeln. Mit der Flexibilität seines Designs und der hohen Genauigkeit und Präzision seiner Ergebnisse ist VARIAN E-1000 die perfekte Lösung für moderne Implantationsanforderungen.