Gebraucht VARIAN E1000 #181223 zu verkaufen

VARIAN E1000 ist ein in der Halbleiterindustrie gebräuchlicher Ionenimplantator und Monitor. VARIAN E-1000 wurde entwickelt, um die strengen Anforderungen von Halbleiterherstellungsprozessen zu erfüllen und ist hocheffizient bei der Dotierungsimplantation und Ionenstrahlmischsteuerung. E 1000 verwendet die neuesten Innovationen in den Bereichen Strahlquelle, magnetische und elektrostatische Optik und Strahlprofiler, so dass die Geräte ein hohes Maß an Genauigkeit und Präzision für die Dotierstoffimplantation und andere Operationen liefern können. E-1000 verwendet ein einzigartiges Strahldispersionssystem, das variable Ionenanteile zur flexiblen Ionenstrahlmischung erzeugt, was zu einer verbesserten Prozesskontrolle führt. Darüber hinaus ermöglicht die große Strahlkammer des E1000 schnelles Scannen und hohen Durchsatz sowie eine kostengünstige Wartung. Der optimierte Strahl-Ziel-Workflow von VARIAN E 1000 ermöglicht die Lieferung hochwertiger Dotierungsprofile und verbesserte Ausbeute. Fortschrittliche Strahlpositionsüberwachungen, anspruchsvolle Strahlstromüberwachungen und Echtzeit-Scanoptionen sorgen zudem für zuverlässige und konsistente Dotierstoffprofile. Darüber hinaus verwendet VARIAN E1000 mehrere Implantationskammern zur gleichzeitigen Ionenimplantation und Querschneidung, um den Prozess durch Minimierung der Sondenzeit und Ausfallzeiten zu optimieren. Das Gerät verfügt über eine patentierte proprietäre Vakuum-Scan-Maschine, die die Druckstabilität verbessert und Strahlgleichmäßigkeit und Leistung maximiert. Darüber hinaus verfügt VARIAN E-1000 auch über ein Digital Scan Tool, das erweiterte Vorspann- und Steuerungsfunktionen für niedrigere Strahlströme und eine verbesserte Bestrahlungsgleichmäßigkeit bietet. Neben seinen zahlreichen Funktionen verfügt E 1000 auch über anspruchsvolle Softwaresteuerungen, darunter ein umfassendes Visualisierungs-Asset, eine umfassende Benutzeroberfläche und ein umfassendes Datenanalyse-Paket. Diese Softwarekomponenten bieten Anwendern Prozesssteuerungs- und Analysefunktionen, die für die Überwachung jeder Phase des Implantationsprozesses erforderlich sind. Insgesamt verfügt E-1000 über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen und Softwarefunktionen, die Halbleiterherstellungseinrichtungen mit beispielloser Genauigkeit und Präzision für die Dotierstoffimplantation sowie eine unübertroffene Prozesskontrolle und Ertragsoptimierung bieten.