Gebraucht VARIAN E1000 #200760 zu verkaufen

VARIAN E1000 ist ein hochpräziser Ionenimplantator und Monitor für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Es kombiniert eine Strahllinie, Ionenquelle, Strahldiagnosegeräte und eine hochauflösende Strahlabtastanlage zu einer kompakten Maschine und bietet eine durchgängige Prozesssteuerung. Der Implantierer erzeugt mittels einer vertikal montierten Ionenquelle Ionenstrahlen und die beschleunigten Ionen werden dann über ein Inline-Strahltransportsystem auf den Zielwafer gerichtet. Die Ionenleistung wird durch die Verwendung von Feldemissionsionenquellen, HF-Stromversorgungen, Massenspektrometrie, hochauflösende Strahlabtastung und erweiterte Strahlüberwachungsinstrumente optimiert. VARIAN E-1000 verfügt über einen zweistufigen Implantierer und einen hochauflösenden Strahl von 0,5 bis 50 keV. Das Gerät ist in der Lage, verschiedene Arten von Ionen mit hohem Strom bis zu einem Maximum von 200mA zu implantieren und ist mit fortschrittlichen Strahldiagnosegeräten und Strahllenkungstechnologie ausgestattet. Es ist auch entworfen, um Einzelwafer-Verarbeitung bei hohem Durchsatz durchzuführen, mit aktueller Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Kontrolle des Implantatwinkels und der Dosis. E 1000 verfügt über ein integriertes Flachbildschirm und eine intuitive Benutzeroberfläche, die einen einfachen Zugriff auf alle Aspekte der Maschinenkonfiguration ermöglicht. Fortgeschrittene Algorithmen zur Signalverarbeitung - wie sie für die Strahlfleckgrößenerkennung und die Stromkompensation verwendet werden - sind ebenfalls verfügbar und gewährleisten eine genaue und präzise Implantatleistung. Für zusätzlichen Schutz während des Betriebs ist E-1000 mit Sicherheitsverriegelungswerkzeug, Balkenstopp und Überstromschutz ausgestattet. VARIAN E 1000 ist eine ideale Wahl für die Verarbeitung von Halbleiterbauelementen aufgrund seiner fortschrittlichen Strahldiagnosegeräte, seiner benutzerfreundlichen Schnittstelle und seiner Sicherheitsfunktionen. Der hochpräzise Ionenimplantator und Monitor der Maschine kann für eine breite Palette von Ionenimplantationsanwendungen verwendet werden und ist damit die ideale Lösung für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen.