Gebraucht VARIAN E1000 #9054294 zu verkaufen

VARIAN E1000 ist ein Ionenimplantator und -monitor, der für die hohe Durchsatzleistung und genaue Implantation hoher Ionendosen in Halbleiterscheiben entwickelt wurde. Der Implantator kann verwendet werden, um effektiv Wafer mit Gallium, Silizium, Phosphor und anderen Ionen zu dotieren, um elektrische Eigenschaften auf dem Wafer zu variieren. Die hochauflösende Strahlüberwachungseinrichtung ermöglicht eine präzise Steuerung der Ionendosis und -verteilung, um optimale elektrische Ergebnisse zu erzielen. VARIAN E-1000 beginnt mit einer Quellkammer zum Laden von Ionenquellen. Es stehen drei separate Quellen zur Verfügung, die zusammenarbeiten, um die gesamte Waferoberfläche zu scannen. Die drei Quellen sind eine Einzelstrahl-Ionenquelle, eine Spaltstrahl-Ionenquelle und eine Mehrstrahl-Ionenquelle. Die Einzelstrahlquelle ist zur großflächigen homogenen Implantation vorgesehen, während die Schlitz- und Mehrstrahlquellen zur strukturierten Implantation oder Implantation in kleinen Bereichen verwendet werden. Das Beschleunigermodul liefert dann den Ionenstrahl an die Ionisationskammer. Diese Kammer wurde speziell entwickelt, um den Ionenstrahl zu begrenzen und eine hohe Implantationsgenauigkeit zu gewährleisten. Es ist mit mehreren Funktionen ausgestattet, wie Strahlkollimatoren und Strahlfeger, sowie einem ionenäquivalenten Monitor, um die genaue Anzahl der implantierten Ionen zu erfassen. Nach der Implantation der Ionen wird der Wafer in die amorphe Abscheidekammer bewegt. Diese Kammer ermöglicht die Abscheidung von nichtleitenden Schichten auf der Oberfläche des Wafers, wodurch die elektrischen Eigenschaften des Chips verbessert werden. Schließlich weist E 1000 eine Wafer-Inspektionskammer zur Inspektion der implantierten Chips auf. Diese Kammer ist mit einem Laseroberflächeninspektionssystem ausgestattet, um die elektrischen Eigenschaften der dotierten Chips zu überprüfen, sowie ein optisches Mikroskop, um die feinen Details der Merkmale auf den Chips zu sehen. Insgesamt ist E1000 eine extrem leistungsfähige, genaue und zuverlässige Implantations- und Überwachungseinheit, die in der Lage ist, die Implantation hoher Ionendosen in Halbleiterscheiben genau zu steuern. Seine verschiedenen Merkmale und Kammern bieten eine hochdurchsatzgenaue Maschine für die dotierte Halbleiterherstellung.