Gebraucht VARIAN E1000172 / E1000173B #9163521 zu verkaufen

VARIAN E1000172/ E1000173B Ionen-Implantat und Monitor ist ein Stück fortschrittliche Ausrüstung entwickelt, um genau Ionen in ein Material implantieren, wie Halbleiterscheiben. Es ist in der Lage, Ionen entlang jedes Substrats effizient zu implantieren, um gewünschte Dotierungsprofile, physikalische Eigenschaften und elektromagnetische Werte zu erzeugen. E1000172/ E1000173B ist mit einer Ionenstrahlquelle, einer Energieanalyseeinrichtung und einer Computersteuereinheit ausgestattet. Die Strahlquelle wird durch ein elektromagnetisches Feld beschleunigt und dann durch eine Abschirmung zur Analysestation geleitet. Dort werden Ionen verschiedener Ladungs-Masse-Verhältnisse identifiziert und durch Variation der elektrischen Feldstärke getrennt. Nach der Auswahl wird der Strahl in zwei Teile aufgeteilt, einen zur Implantation und den anderen zur Überwachung der Energie der implantierten Ionen. Der Steuerrechner regelt dann die Strahlintensität, um sicherzustellen, dass die Ionendosis genau und wiederholbar ist, ohne die Präzision zu beeinträchtigen. Der Monitor ermöglicht eine präzise Steuerung der Ionendosis durch präzise gleichzeitige Messung des aktuellen Ionenstrahls und des implantierten Materials. Die Implantatparameter wie Strom, Energieausbreitung, Ionenarten und Einfallswinkel können je nach zu implantierendem Material und den zu erreichenden gewünschten Eigenschaften eingestellt werden. Eine automatisierte Steuerung dient dazu, diese Parameter ständig zu überwachen und erforderliche Anpassungen zur Prozessoptimierung vorzunehmen. VARIAN E1000172/ E1000173B verfügt zudem über eine Ionen-Implantat-Überwachungseinheit, um sicherzustellen, dass die implantierten Ladungsraten den vorgegebenen Parametern entsprechen. Die Maschine ist darauf ausgelegt, gefährliche Strahlungswerte zu erkennen und den Strahl bei Bedarf sofort abzuschalten. Zusätzlich wird ein Vakuum-Sicherheitsverriegelungswerkzeug verwendet, um zu verhindern, dass Partikel das Gut beschädigen. Insgesamt ist E1000172/ E1000173B eine zuverlässige Technologie für eine breite Palette von Ionenimplantationsanwendungen. Es wurde entwickelt, um eine schnelle, effiziente und präzise Ionenimplantation zu ermöglichen. Sein fortschrittliches Steuermodell sorgt dafür, dass implantierte Ladungen für optimale Ergebnisse mit vorgegebenen Parametern übereinstimmen.