Gebraucht VARIAN E1000HP #187202 zu verkaufen

ID: 187202
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1994
Implanter, 8" Non-SMIF Jar type S6 Motor Gas type: CGA Type:B+ SDS:AS+ SDS:P+,AR+ Beam line Turbo Pump Type: Leybold Compressor Type: CT8600(2ea) Utiliy Supply: Top Faraday: PFG Angle: Auto Soucre Assembly type: Cusp source Y2K Status Completion: Yes Below pumps are not included: 1) Terminal Dry Pump 2) Chamber Dry Pump 3) Chamber Cryo Pump Installed in clean room Powered off 1994 Vintage.
VARIAN E1000HP ist ein Ionenimplantator & Monitor-Gerät, das die einzigartige Ionenimplantationstechnologie von VARIAN verwendet. Es wird in einer Vielzahl von Branchen und Anwendungen eingesetzt, da es in der Lage ist, hochenergetische Ionen für eine Vielzahl von Anwendungen zu produzieren und zu steuern, wie zum Beispiel für die Dotierung und Maskenoptimierung in der Halbleiterherstellung, für die Oberflächenmodifizierung von Metallen und für die Ionenstrahlanalyse. Es ist die neueste Ergänzung der VARIAN-Linie von Ionenimplantatoren, die in den letzten Jahrzehnten entwickelt wurden, um zuverlässige und leistungsfähige Implantationssysteme anzubieten. VARIAN E1000 HP-System ist ein Hochstrom-Hochenergie-Implantierer für ein breites Anwendungsspektrum. Es ist in der Lage, Dosen zwischen 0,1 und Dutzenden von Kilokoulomben zu liefern, mit Strahlstrom von 0,1 zu 300 Nanoampere und Strahlenergien von 0,01 zu 12 MeV. Es verfügt über ein optimiertes Strahloptikdesign, das es dem Benutzer ermöglicht, die Energieverteilung des Strahls schnell anzupassen, und seine fortschrittliche Strahltransporteinheit sorgt für eine hochpräzise Implantation. Darüber hinaus wurde E-1000 HP mit einer integrierten ringförmigen Ionensammler- und Detektoranordnung sowie einer fortschrittlichen Diagnoseplattform entwickelt, die den Bedienern hilft, eine optimale Geräteleistung zu gewährleisten. E1000 HP wird stark in der Halbleiterindustrie eingesetzt, da es eine hochzuverlässige und uniformierte Ionenimplantation ermöglicht. Es eignet sich auch für Anwendungen, bei denen eine niedrigere Dosis und eine geringere Schadenimplantation gewünscht ist. Es ist in der Lage, hochgenaue Dotierungstiefen herzustellen, wie sie für eine effektive Dotierungssteuerung in typischen CMOS-Geräten erforderlich sind. Es wird auch für die Maskenoptimierung verwendet, wo es hilft, die kritischen Abmessungen eines Geräts zu feinjustieren, ohne in flachen Tiefen eine signifikante Verschlechterung zu verursachen. E1000HP wurde mit Blick auf seine Leistungsfähigkeit im industriellen Umfeld konzipiert. Es verfügt über eine integrierte Automatisierungsschnittstelle, mit der es mit übergeordneten Computersystemen und Datenerfassungseinrichtungen verbunden werden kann, so dass es einfach in bestehende Halbleiterherstellungssysteme implementiert werden kann. Es bietet auch eine breite Palette von Sicherheitsfunktionen, so dass Kunden das Schutzniveau genießen können, das sie für ihre Maschine benötigen. VARIAN E-1000 HP hat sich als effizientes und zuverlässiges Implantationswerkzeug für eine Vielzahl von Anwendungen bewährt und ist sicher ein wichtiger Vorteil für die Fertigung von Anlagen für viele Jahre.
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