Gebraucht VARIAN E11107177 #9265198 zu verkaufen

VARIAN E11107177 Ionenimplantator & Monitor ist ein fortschrittliches Modell von Ionenimplantatoren, das für die Herstellung von großen Halbleiter- und Siliziumwafern entwickelt wurde. Es wird üblicherweise bei der Herstellung von integrierten Schaltungen, Wafer-Level-Verpackungen und anderen mikroelektronischen Komponenten eingesetzt. E11107177 ist ein Hochdurchsatz, DC vorgespannt, Flutpistole Implantierer Ausrüstung mit mittleren bis hohen Strahlströmen von 0.2uA bis 400mA. Es ist in der Lage, mit niedrigen Energien von 1 keV bis 50 keV zu arbeiten und verfügt über einen integrierten Faraday-Becher zur Dosis- und Dosismessung an der Quelle. Die Ionenquelle von VARIAN E11107177 besteht aus einem E-Beam Generator, einem E-Beam Cup und einer Kollektor-Baugruppe. Der E-Beam Cup ist mit zwei koaxialen HF-Feldern ausgestattet, die eine dynamische Manipulation der Ionenstrahlenergie und der Flugbahn ermöglichen. Dies ist vorteilhaft, da es eine Abstimmung der Prozessparameter auf bestimmte Komponenten der Oberfläche eines Substrats ermöglicht. E11107177 verfügt über zwei Guillotineschlitzbaugruppen und ein einzigartig gestaltetes Extraktorsystem, das eine schnelle Initiierung und Beendigung eines Ionenstrahlscans ermöglicht und die Implantationszeit erheblich reduziert. Darüber hinaus kann das Gerät mit bis zu vier Strahlreglern ausgestattet werden, wodurch gleichzeitig bis zu vier Prozesse durchgeführt werden können. VARIAN E11107177 Implanter verfügt über mehrere Sicherheitsmerkmale. Es ist mit verschiedenen Sensoren zur Überwachung von Temperatur und Druck sowie einer Gasfördereinheit ausgestattet, um ein sicheres Funktionieren der Maschine zu gewährleisten. E11107177 Ionenimplantierer & Monitor ist ein umfassendes und vielseitiges Werkzeug, das die hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie erfüllen kann. Mit seiner trägheitsgesteuerten Strahlabtastung, der dynamischen Manipulation von Strahlenergien und Sicherheitsmerkmalen ist es zu einer weit verbreiteten Lösung für eine Vielzahl von Ionenimplantationsanwendungen geworden.