Gebraucht VARIAN E11114360 #293670842 zu verkaufen

VARIAN E11114360 ist ein Hochleistungs-Ionenimplantator und Monitorgerät. Es ist eine Art von Ionen-Implantat-Technologie, die in der Halbleiterindustrie zur Implantation von Ionen in Substrate verwendet wird. Mit dem Verfahren werden präzise Muster für die Herstellung von Halbleiterbauelementen erzeugt. Das System ist eine Hochvakuumplattform, die für die Aufrechterhaltung des Vakuums mit hoher Präzision ausgelegt ist. Es verfügt über eine automatisierte Steuereinheit, die genaue und konsistente Implantationsbedingungen ermöglicht. Die Maschine bietet eine verbesserte Genauigkeit und Wiederholbarkeit gegenüber der manuellen Implantation und ermöglicht gleichzeitig die Verwendung mehrerer Materialien und Konfigurationen in einem einzigen Lauf. E11114360 verfügt über ein Multifunktions-Überwachungswerkzeug, das für die Überwachung der Kathodenstrahlleistung im Inneren ausgelegt ist. Dazu gehört eine flexible Strahllinien-Architektur, die Multiplex- oder Einzelpartikel verarbeiten kann, mit Messungen von nicht mehr als 4 Mikrometern. Er weist einen Impuls-Impuls-Strahlantrieb für gleichmäßige Implantationstiefe auf. Das Asset verfügt über einen hochpräzisen Bremsfeldenergieanalysator. Es ermöglicht eine genaue energetische Trennung von nicht gepulsten Ionen durch präzise Verzögerung und Messung. Es verfügt auch über einen positionsempfindlichen Detektor für automatische Punkt- und Spurenimplantationsprozesse. Das Modell ist mit einem In-situ-Ionen-Strommonitor ausgestattet, der die Überwachung von Ionenbeschüssen auf dem Zielsubstrat ermöglicht. Dies hilft, eine präzise Implantationskontrolle und Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Es bietet auch verbesserte Zuverlässigkeit und Genauigkeit gegenüber herkömmlichen Methoden der Implantation. VARIAN E11114360 verfügt zudem über eine separate Vorrichtung zum Wafertransport. Diese Vorrichtung ermöglicht das automatische Be- und Entladen von Substraten unter Beibehaltung der Vakuumintegrität. Dadurch entfallen manuelle Eingriffe, was den Prozess effizienter und kostengünstiger macht. Das Gerät ist auch ausgestattet, um externe Eingaben von anderen Geräten zu empfangen, wie die Fähigkeit, automatisierte Befehle, Diagnoseroutinen und Informationen vom zentralen Computer zu akzeptieren. Dies hilft, eine höhere Genauigkeit und Kontrolle des Implantationsprozesses zu gewährleisten. Insgesamt ist E11114360 ein leistungsfähiges und genaues Ionen-Implantier-/Monitor-System, das für den Einsatz in der Halbleiterbauelement-Fertigungsindustrie entwickelt wurde. Zu den Merkmalen gehören hochpräzise Vakuumsteuerung, automatisierte Steuerung von Implantationsparametern, flexible Strahllinien-Architektur, Verzögerung der Feldenergieanalyse, positionsempfindlicher Detektor und In-situ-Ionen-Strommonitor. Es eignet sich für den Einsatz in verschiedenen Produktionseinstellungen und sorgt für mehr Zuverlässigkeit und Genauigkeit im Implantationsprozess.