Gebraucht VARIAN E220 #9257302 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9257302
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1994
Ion implanters, 8"
Type: Medium current implanter
SEIKI STP-1000C Vacuum turbo I/S
SEIKI STP-300 ANA Turbo
SEIKI STP-1000 B/L Turbo
Vacuum rough I/S: EBARA 40 x 20
Stage: EBARA 50 x 20 UERR 6M
Load lock: EBARA A30W
Gas box: HP type
(4) Gas bottles:
PH3-s
AsH3-s
BF3
Busshing EHP type
Source head bernas
Arc power supply CPI
Mirror readback
Reducer: (2) Steps
Scan post scan chamber
Scan generator trek PS
Linear servo copley
Wafer clamp mechanical: 6 Points
Roplat: (Controller P/N:E11048880)
Tilter: (Controller P/N:E11048890)
Travelling faraday TVL
Main monitor flat-panel
Decel auto
HV Probe
Exhaust leak detect
Gas Interlock Unit
Interface PD
No vaporizer
1994 vintage.
VARIAN E220 ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und Monitor der VARIAN Semiconductor Equipment Group. VARIAN E-220 wurde speziell entwickelt, um die Produktivität zu steigern und Kosten zu senken. Damit können Hersteller von Halbleiterchips schnell leistungsstarke Geräte mit geringer Leistung produzieren. E 220 Implantate und Monitore zeichnen sich durch qualitativ hochwertige Präzisionsimplantate mit geringen Geräuschpegeln und Gleichmäßigkeit aus und bleiben dabei relativ kompakt. VARIAN E 220 verfügt über zwei unabhängige Antriebssysteme, eine Vollduplex-Ionenquelle und eine Hochstrom-Elektronenquelle, um eine optimale Leistung zu erzielen. Diese Technologie ermöglicht die Implantation von Ionen- und Elektronenstrahlen in den Chip. Darüber hinaus nutzt E220 eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche, die eine genaue Echtzeit-Überwachung der Implantatbedingungen ermöglicht. E-220 verfügt über Strahl-Strom-Bereiche bis zu 25mA, Spannungsbereiche bis zu 950V und Energiebereiche bis zu 25keV, wodurch eine höhere Reichweite von Ionenarten ermöglicht wird. Der Implantierer verfügt außerdem über eine Drei-Elektroden-Konfiguration, einen Abscheidemonitor und einen kippbaren, automatisierten Substratmasker mit bis zu acht Ebenen Substratschutz. Dies ermöglicht die präzise Abgabe von Ionen und Elektronen ohne Überpenetration. VARIAN E220 ist mit einem fortschrittlichen programmierbaren Abgabesystem ausgestattet, das in der Lage ist, eine Vielzahl von Variablen zu steuern, wie den Gesamtstrahlstrom, den Zeitpunkt zwischen den Impulsen und die gesamte abgegebene Dosis. Es umfasst auch automatisierte Plasmareiniger und vorprogrammierte Routinen, die höhere Durchsatzraten und eine verbesserte Produktivität ermöglichen. Darüber hinaus verfügt VARIAN E-220 über ein vorausschauendes Wartungssystem, das potenzielle Verschleißbereiche identifiziert und frühzeitig vor anomolen Betriebsbedingungen warnt, seine Zuverlässigkeit und Betriebszeit erhöht. E 220 ist ein zuverlässiger und präziser Ionenimplantator und -monitor, der perfekt für Produktionsumgebungen geeignet ist, die hochwertige Geräte erfordern. Mit automatisiertem und manuellem Betrieb sowie ausgeklügelten Sicherheits- und Steuerungssystemen liefert VARIAN E 220 die ultimative Präzision und Effizienz für eine Vielzahl von Halbleiterchip-Herstellern.
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