Gebraucht VARIAN E220 #9361402 zu verkaufen
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ID: 9361402
Wafergröße: 6"
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: Front panel
Single wafer
E-Chuck
Loadlock: Left / Right
VAT Gate valve missing
Vacuum:
Ion source chamber
Beam line chamber
End station chamber
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump
(3) Controllers
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Turbo pump
Maker / Model / Class
EDWARDS / QDP80 / Terminal dry pump
PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP
PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC
PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP
PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC
PFEIFFER / TPH 240 / Beam line TMP
PFEIFFER / TCP 121 / Beam line TMPC
CTI / 250F / End station C/P
CTI / 9600 / Compressor
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC
EDWARDS / QMB250 + QDP40 / End station dry
Process gas:
Type / Gas / CGA Outlet
HP / AsH3 / CGA 577
HP / PH3 / CGA 578
HP / BF3 / CGA 579
HP / Ar (N2) / CGA 580
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~40 keV
Acceleration power supply: 0 keV~180 keV
Power supplies (Assembly):
Filament
Vaporizer
Source magnet
Extraction
Extraction suppression
Analyzer magnet
Mirror power supply (Decel)
(2) Quadrupole magnets
Scan generator controller
Mirror
Dipole lens magnet
Acceleration
Acceleration suppression
Scan trek power supply
Isolation transformer assembly
Mirror read back assembly: 60 keV
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left and right elevator
Dose integrator
DI Temperature monitor
Options:
Beam reducer
Decel
Gas box type: HP
Source type: Bernas
Faraday type: VARIAN Scanning faraday
Utilities:
Air: 100~150 PSI
N2: 40~150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI
Temperature: 4°C~21°C
Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 43.2 kVA, 120 FLA.
VARIAN E220 ist ein leistungsstarker Ionenimplantator und ein automatisierter Monitor für anspruchsvolle Ionenimplantationsanwendungen. Seine einfach zu bedienenden Funktionen und Systeme ermöglichen die genaue Kontrolle der Implantationsprozessparameter, was zu hoher Qualität und Durchsatz von Substraten führt. Die Ausrüstung bietet eine Vielzahl von Prozesseinstellungen und Fähigkeiten, einschließlich Einzel- oder Multi-Ionen, variable Spannung, externe Strahl-Setup, Plasmableche, und eine Reihe von anderen anspruchsvollen Funktionen. Seine ausgeklügelten Härtungswerkzeuge sind darauf ausgelegt, Dotierstoffe in hohen Konzentrationen in das Substrat zu implantieren, ohne das Substratmaterial zu beschädigen. Das System bietet auch einen vielseitigen Implantationsprozess, so dass es eine breite Palette von Materialien zu handhaben. Es ist mit einem integrierten Sensor hoher Dichte ausgestattet, der Ionenstromdichte und -energie misst. Der Sensor kann die Ionendichte im Substrat erfassen, um die gewünschten Implantationsraten aufrechtzuerhalten. VARIAN E-220 verfügt über eine effiziente Umweltkontrolle, um die idealen Bedingungen für das Substrat zu gewährleisten. Seine fortschrittliche Umweltkontrolle reduziert die Menge an Energie während der Implantation und verbessert die Genauigkeit der Ergebnisse. Das Gerät verfügt auch über eine Ionenquelle, die mit Gleichstrom betrieben wird, wodurch die Gasbildung entfällt und das Risiko einer Kontamination verringert wird. Die Quelle enthält eine hocheffiziente Fokussiermaschine, die die Substrattemperatur stabilisiert. Die ausgeklügelte Strahlliniensteuerung macht E 220 zu einer idealen Wahl für einen zuverlässigen Implantationsprozess. Spezielle Hardware, wie elektrostatische Ablenker und Ionenführungen, sorgen für eine präzise Steuerung des Strahls und sorgen für eine gleichmäßige Implantation. Die automatisierte Strahlliniensteuerung passt die Strahlgröße und -form bei Bedarf automatisch an, was zu einer präzisen und effektiven Implantation der gewünschten Ionen führt. Das Tool kommt mit leistungsstarker Software, die den Prozess benutzerfreundlich und bequem macht. Datenprotokollierung, erweiterte Diagnosen und andere Überwachungsfunktionen erleichtern die Verfolgung und Analyse des Fortschritts der Implantation. Die Software unterstützt auch fortschrittliche statistische Analysen und überprüfbare Datensätze. VARIAN E 220 ist eine vielseitige und zuverlässige Bereicherung für fortgeschrittene Ionenimplantationsanforderungen. Mit seinem breiten Spektrum an Eigenschaften und Fähigkeiten ist es gut geeignet, um anspruchsvolle Implantationsanforderungen zu erfüllen, die eine Vielzahl von Materialien umfassen. Seine ausgeklügelte Hard- und Software macht es zu einer idealen Wahl für abwechslungsreiche Ergebnisse bei hoher Präzision.
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