Gebraucht VARIAN E220 #9361402 zu verkaufen

ID: 9361402
Wafergröße: 6"
Medium current ion implanter, 6" Signal tower: Front panel Single wafer E-Chuck Loadlock: Left / Right VAT Gate valve missing Vacuum: Ion source chamber Beam line chamber End station chamber Pumps: Terminal: Dry pump Turbo pump (3) Controllers E/S Chamber: Dry pump Dry pump / Booster pump Cryo pump L/L Turbo pump Maker / Model / Class EDWARDS / QDP80 / Terminal dry pump PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC PFEIFFER / TPH 240 / Beam line TMP PFEIFFER / TCP 121 / Beam line TMPC CTI / 250F / End station C/P CTI / 9600 / Compressor VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC EDWARDS / QMB250 + QDP40 / End station dry Process gas: Type / Gas / CGA Outlet HP / AsH3 / CGA 577 HP / PH3 / CGA 578 HP / BF3 / CGA 579 HP / Ar (N2) / CGA 580 High voltage range: Extraction power supply: 0 keV~40 keV Acceleration power supply: 0 keV~180 keV Power supplies (Assembly): Filament Vaporizer Source magnet Extraction Extraction suppression Analyzer magnet Mirror power supply (Decel) (2) Quadrupole magnets Scan generator controller Mirror Dipole lens magnet Acceleration Acceleration suppression Scan trek power supply Isolation transformer assembly Mirror read back assembly: 60 keV Controller (Assembly): Left arm servo Right arm servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt servo Vertical lift orienter Uniformity Liner motor servo amp Orienter Left and right elevator Dose integrator DI Temperature monitor Options: Beam reducer Decel Gas box type: HP Source type: Bernas Faraday type: VARIAN Scanning faraday Utilities: Air: 100~150 PSI N2: 40~150 PSI Cooling water: 60~150 PSI Temperature: 4°C~21°C Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 43.2 kVA, 120 FLA.
VARIAN E220 ist ein leistungsstarker Ionenimplantator und ein automatisierter Monitor für anspruchsvolle Ionenimplantationsanwendungen. Seine einfach zu bedienenden Funktionen und Systeme ermöglichen die genaue Kontrolle der Implantationsprozessparameter, was zu hoher Qualität und Durchsatz von Substraten führt. Die Ausrüstung bietet eine Vielzahl von Prozesseinstellungen und Fähigkeiten, einschließlich Einzel- oder Multi-Ionen, variable Spannung, externe Strahl-Setup, Plasmableche, und eine Reihe von anderen anspruchsvollen Funktionen. Seine ausgeklügelten Härtungswerkzeuge sind darauf ausgelegt, Dotierstoffe in hohen Konzentrationen in das Substrat zu implantieren, ohne das Substratmaterial zu beschädigen. Das System bietet auch einen vielseitigen Implantationsprozess, so dass es eine breite Palette von Materialien zu handhaben. Es ist mit einem integrierten Sensor hoher Dichte ausgestattet, der Ionenstromdichte und -energie misst. Der Sensor kann die Ionendichte im Substrat erfassen, um die gewünschten Implantationsraten aufrechtzuerhalten. VARIAN E-220 verfügt über eine effiziente Umweltkontrolle, um die idealen Bedingungen für das Substrat zu gewährleisten. Seine fortschrittliche Umweltkontrolle reduziert die Menge an Energie während der Implantation und verbessert die Genauigkeit der Ergebnisse. Das Gerät verfügt auch über eine Ionenquelle, die mit Gleichstrom betrieben wird, wodurch die Gasbildung entfällt und das Risiko einer Kontamination verringert wird. Die Quelle enthält eine hocheffiziente Fokussiermaschine, die die Substrattemperatur stabilisiert. Die ausgeklügelte Strahlliniensteuerung macht E 220 zu einer idealen Wahl für einen zuverlässigen Implantationsprozess. Spezielle Hardware, wie elektrostatische Ablenker und Ionenführungen, sorgen für eine präzise Steuerung des Strahls und sorgen für eine gleichmäßige Implantation. Die automatisierte Strahlliniensteuerung passt die Strahlgröße und -form bei Bedarf automatisch an, was zu einer präzisen und effektiven Implantation der gewünschten Ionen führt. Das Tool kommt mit leistungsstarker Software, die den Prozess benutzerfreundlich und bequem macht. Datenprotokollierung, erweiterte Diagnosen und andere Überwachungsfunktionen erleichtern die Verfolgung und Analyse des Fortschritts der Implantation. Die Software unterstützt auch fortschrittliche statistische Analysen und überprüfbare Datensätze. VARIAN E 220 ist eine vielseitige und zuverlässige Bereicherung für fortgeschrittene Ionenimplantationsanforderungen. Mit seinem breiten Spektrum an Eigenschaften und Fähigkeiten ist es gut geeignet, um anspruchsvolle Implantationsanforderungen zu erfüllen, die eine Vielzahl von Materialien umfassen. Seine ausgeklügelte Hard- und Software macht es zu einer idealen Wahl für abwechslungsreiche Ergebnisse bei hoher Präzision.
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