Gebraucht VARIAN E220HP #9259892 zu verkaufen
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ID: 9259892
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Ion implanter, 8"
Gas cabinet:
Gas cylinder volume (liter): 1.0 Liter
Internal Ar
AsH3 Cylinder type: Vaporizer
PH3 Cylinder type: High pressure
BF3 Cylinder type: High pressure
Gas line purge
Vaporizer P.S
Source:
Source head type: Bernas
No reducer type 2 step
Beam line:
Scan generator: 20 kV
Mirror: 30 kV
No automatic graded decel relay and P/S
No hall probe
End station:
Old platform
M-Clamp
Three light signal tower
VESDA Smoke detectors
Service monitor
No control computer CVCF
No video viewing of wafer loading
Accessory:
STP-1000C Source turbo pump
STP-300C Analyzer turbo pump
STP-1000 Beam line turbo pump
QDP80 Source rough pump
QDP40 Stage pump
QMP250/QDP40 End station pump
SUZUKI SHOKAN A250F Target cryo pump
SUZUKI SHOKAN A100L Load lock pump
SUZUKI SHOKAN C300 Cryo compressor
No remote PD
Vaporizer power supply missing
1996 vintage.
VARIAN E220HP ist ein hochpräziser Ionenimplantator und Monitor zur Implantation präziser Ionendosen in Halbleitermaterialien. Es ist eine vielseitige, automatisierte Ausrüstung, die für eine breite Palette von Implantationsanwendungen verwendet werden kann. Das System verfügt über eine Reihe von Funktionen, die Effizienz und Präzision maximieren. VARIAN E220 HP besteht aus einer Ionenquelle, einem Beschleuniger, einer Strahlsteuereinheit und einer Prozesskammer. Die Ionenquelle erzeugt und beschleunigt die implantierten Ionen auf präzise Energien. Die Ionenquelle ist mit Vakuum- und Kryopumpensystemen und einem Temperaturregler für optimale Implantationsleistung ausgestattet. Der Beschleuniger ist so ausgelegt, dass er dem Substrat einen energiereichen Ionenstrahl liefert. Es kann auch zur Abstimmung der Strahlenergie stromabwärts vor dem Implantieren in das Substrat verwendet werden. Die Strahlsteuermaschine ist für eine präzise Steuerung des Strahlwinkels und der Intensität ausgelegt. Dieses Werkzeug verfügt auch über einen Extraktor, der die Ionenextraktion und den Strahlwinkel während der Implantation genau einstellen kann. Die Prozesskammer ist mit einem Gehäuse aus Edelstahl aufgebaut, das einen hervorragenden Schutz vor Kontamination bietet und eine präzise Kontrolle der Prozessbedingungen ermöglicht. Das Asset verfügt über eine hochautomatisierte Benutzeroberfläche, mit der Anwender komplexe Implantationsprozesse schnell und einfach einrichten können. Parameter wie Ionenelementzusammensetzung, Ionenenergie und Strahlwinkel sind alle direkt über die Benutzeroberfläche einstellbar. Darüber hinaus kann das Modell über einen externen Rechner in andere Systeme integriert werden. Dies bietet zusätzliche Flexibilität und Präzision im Umgang mit mehreren Implantationsprozessen. E 220 HP ist für maximale Zuverlässigkeit und konstante Leistung ausgelegt. Es wurde entwickelt, um strengen Umgebungsbedingungen wie Temperatur- und Feuchtigkeitsschwankungen in industriellen Anwendungen standzuhalten. Dadurch wird sichergestellt, dass die Ausrüstung auch bei rauen Arbeitsbedingungen unterbrechungsfrei arbeitet. Darüber hinaus ist das System mit einer Reihe von Diagnose- und Überwachungssystemen ausgestattet, die Fehler von Einheiten erkennen und identifizieren können, bevor sie auftreten. E220 HP ist eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen, die eine präzise Implantation von Ionen in Halbleitermaterialien benötigen. Seine fortschrittlichen Steuerungs- und Automatisierungssysteme bieten maximale Präzision und Effizienz und ermöglichen es Benutzern, die Produktivität zu maximieren. Seine zuverlässige Leistung macht es für eine breite Palette von industriellen Anwendungen geeignet.
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