Gebraucht VARIAN E220HP #9279486 zu verkaufen

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VARIAN E220HP
Verkauft
ID: 9279486
Weinlese: 1995
Medium current ion implanter Platen (Mechnical), 6" Roplat Tilter: Vertical type Gas box type: 4 Gas high press 1995 vintage.
VARIAN E220HP ist ein Ionenimplantierer und -monitor, der im Halbleiterherstellungsprozess verwendet wird. Es ist ein revolutionäres Gerät, das in der Lage ist, in Verbindung mit einer Hochdruckgasquelle eine Vielzahl von Implantationen schnell und präzise in Substrate zu implantieren. VARIAN E220 HP enthält einen Monitor zur genauen Messung der implantierten Ionen und ein Ausrichtungssystem, das die genaue Platzierung der Ionen ermöglicht. E 220 HP verfügt über eine Elektronenbeschussquelle (EB), die die Energie liefert, um die Substratoberfläche mit den Implantationen zu bombardieren. Dieses Energieniveau kann angepasst werden, um die gewünschte Ionenkonzentration und Energieniveau zu erreichen, so dass eine enge Kontrolle der implantierten Ionen ermöglicht. Zusätzlich kann das gesamte System mit einem fortschrittlichen Laserausrichtsystem in Echtzeit überwacht werden. Dadurch kann der Implantierer die Ionen schnell und präzise auf die Substratoberfläche ausrichten, was eine erhöhte Kontrolle über den Implantationsprozess ermöglicht. VARIAN E 220 HP verwendet sekundäre Emissionstechnologie, um einen konsistenten und zuverlässigen Strahl beim Implantieren von Ionen auf ein Substrat zu gewährleisten. Diese Technologie versorgt den Ionenimplantator mit einem gleichmäßigen Ionenstrahl, der sicherstellt, dass die implantierten Ionen gleichmäßig über die Zieloberfläche verteilt sind. Darüber hinaus bietet E220 HP eine Vielzahl verschiedener Implantationsstrategien, mit denen die implantierten Ionen weiter verfeinert werden können. Diese Strategien reichen von Lawinendetune bis zur Klystron-Beschleunigung und bieten eine Reihe von Fähigkeiten für spezifische Implantationszwecke. Schließlich verwendet E220HP einen Hochgeschwindigkeitsprozessor, der mehrere Implantationssequenzen gleichzeitig ausführen kann, so dass mehrere Substrate parallel implantiert werden können. Mit diesem Prozessor erreicht der Implantierer auch ultrahohe Implantationsgeschwindigkeiten von bis zu 500 msec. Darüber hinaus ist es in der Lage, große Datenmengen zu speichern, was eine einfache Rückruf- und automatisierte Analyse von Daten auf Implantationskarten und -ergebnissen ermöglicht. Insgesamt ist VARIAN E220HP ein leistungsstarker und vielseitiger Ionenimplantator und -monitor, der eine verbesserte Kontrolle und Genauigkeit im Halbleiterherstellungsprozess bietet. Durch eine hohe Individualisierung und parallele Implantation sorgt VARIAN E220 HP dafür, dass alle Substrate präzise und gleichmäßig mit den gewünschten Ionen implantiert werden, was überlegene Ergebnisse ermöglicht. Mit seinen hohen Verarbeitungsgeschwindigkeiten und Datenspeicherfähigkeiten ist dieser Ionenimplantierer und -monitor ein unschätzbares Werkzeug in der Halbleiterindustrie.
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