Gebraucht VARIAN E31000130 #293671705 zu verkaufen

VARIAN E31000130 ist ein hochleistungsfähiger Ionenimplantator und -monitor, der überlegene Genauigkeit und Zuverlässigkeit für fortschrittliche Substratoberflächenbehandlungen bietet. Das Gerät kombiniert ein Dual-Beam-Scanning-Gerät, eine fortschrittliche Steuerungssoftware und eine entfernbare Ionenquelle mit einem hochpräzisen Dosimetriesystem, das eine zuverlässige und wiederholbare Steuerung dynamischer Implantatparameter während des gesamten Implantationsprozesses ermöglicht. E31000130 integriert fortschrittliche Rückkopplungssensoren, um Position, Energie und Menge der implantierten Ionen zu messen, um eine präzise Steuerung der Parameter für optimale Prozessergebnisse zu gewährleisten. Das Gerät verfügt über eine Doppelstrahl-Abtasteinheit, um eine schnelle und genaue Bilderfassung und Dosisüberwachung der Substratoberflächenbehandlung zu ermöglichen. Diese Maschine besteht aus leistungsstarken und präzisen lasergetriebenen Ionenoptiken mit einstellbaren, hochpräzisen Abtastwinkeln, die eine genaue Kontrolle der Strahlrichtung und -dosis ermöglichen. Der eng gesteuerte Abtastwinkel des Lasers sorgt für eine optimale Verteilung der Ionen über die Oberfläche des Substrats für eine optimale homogene Dosisregulierung. Darüber hinaus ermöglicht das Doppelstrahl-Abtastwerkzeug eine schnelle und präzise Beurteilung der Oberfläche des Substrats. VARIAN E31000130 ermöglicht eine vollständige Kontrolle der Parameter während des Ionenimplantationsprozesses. Dazu gehören unter anderem eine robuste Steuerung der Ionenstrahlladung, Spannung, Anzahl der Ionen pro Impuls, Abtastbereich, Dosisrate und Strahlstrom. Die ProScan Active Prozessüberwachung ermöglicht es Benutzern, Ionenimplantationszyklen mit Echtzeit-Feedback über den Status der Strahlposition, Ladung und Dosisrate einfach anzupassen. Dies ermöglicht eine schnelle, zuverlässige und genaue Kontrolle der Implantatparameter für ideale Ergebnisse. Das Modell integriert auch eine Reihe von leistungsstarken Feedback-Sensoren, um die Position, Energie und Menge der implantierten Ionen zu messen. Durch den Vergleich von Vor-Ort-Werten mit Online-Datenbanken und vom Benutzer angegebenen Werten kann das Gerät alle Implantatparameter steuern, um die gewünschte Ionendichte und Gleichmäßigkeit zu erreichen. Dieses Feedback-System informiert die Anwender zu jedem Zeitpunkt ständig über die Dosierung und die Strahlposition. Insgesamt ist E31000130 ein zuverlässiges und leistungsstarkes Gerät für präzise Ionenimplantations- und Überwachungsanwendungen. Die Doppelstrahl-Abtasteinheit des Geräts und integrierte Rückkopplungssensoren bieten überlegene Genauigkeit und Zuverlässigkeit für Substratoberflächenbehandlungen. Darüber hinaus ermöglichen die einstellbaren Ionenstrahlparameter und die aktive Prozessüberwachungsmaschine es Anwendern, alle Implantatparameter exakt auf optimale Prozessergebnisse zu steuern.