Gebraucht VARIAN E500 #9024963 zu verkaufen

VARIAN E500 Ionenimplantator ist ein Hochleistungs-Ionenimplantationsgerät von VARIAN Semiconductor Equipment. Es wurde entwickelt, um einen hohen Durchsatz und genaue, gleichmäßige Dosis- und Energieverteilungen für eine Vielzahl von Anwendungen bereitzustellen. Das System nutzt die neueste Massenfokussierungsmagnettechnologie für eine zuverlässige Strahlimpulslängenregelung und eine ausgeklügelte digitale Zielstromversorgung für eine präzise Energiesteuerung. Das Gerät ist von 14 „auf 30“ erweiterbar, mit einer ganzen Reihe von Zubehör, um den Durchsatz zu maximieren. VARIAN E 500 nutzt eine heiße Filament-Ionenquelle für maximalen Strahlstrom, auch bei niedrigen Energien. Der Elektronenkompressor ermöglicht sehr schnelle Strahlimpulse, die eine Feinsteuerung der Dosiswerte ermöglichen, ohne den Durchsatz zu beeinträchtigen. Die Strahlsteuerung wird durch den Einsatz einer elektrostatischen Linsenmaschine zur Optimierung der Strahlform und -position weiter verbessert. Der Strahl wird mit einem Elektronendetektor in einem Faraday-Becher überwacht, wodurch ein externes Elektrometer entfällt. E-500 besteht aus zwei Teilsystemen: dem Implantationswerkzeug und dem Subfab-Monitor. Die Implantationsanlage umfasst Quarzkammer, Ionenquelle, Beschleunigungsrohr und Vakuumsysteme sowie das Massenfokusmodell. Der Monitor verwendet einen speziell entwickelten Substrathalter, um das Substrat sicher zu halten, und eine Dosierungssteuereinheit, um den Implantationsprozess zu regulieren. Eine Strahlstromversorgung und ein Strahlstrommonitor ermöglichen eine genaue Kontrolle der Dosis- und Energieniveaus. E 500 ist für die Produktion von Silizium und III-V-Materialien mit einer maximalen Dosisrate von über 400 A/cm2 pro Sekunde ausgelegt. Die Ausrüstung bietet eine breite Palette von Implantationsparametern und kann auf eine Vielzahl von Materialien zugeschnitten werden, die beispiellose Genauigkeit und Gleichmäßigkeit bieten. VARIAN E-500 kann Wafer bis zu 12 Zoll handhaben und nutzt eine leistungsstarke Source-to-Target-Abstandsregelung für eine genaue Effizienzkontrolle. E500 Monitorsystem bietet präzise Implantationsüberwachung und Gleichmäßigkeitskontrolle und stellt das Produkt höchster Qualität sicher. Genaue Strahl- und Dosisstrommessungen werden in Echtzeit für eine einfache Prozessüberwachung und -anpassung angezeigt. Erweiterte Diagnose- und Prozessüberwachungstools wie Live-View und OD-View-Displays ermöglichen eine schnelle und einfache Fehlerbehebung des Geräts. VARIAN E500 ist eine fortschrittliche, benutzerfreundliche Ionenimplantationsmaschine von VARIAN Semiconductor Equipment. Mit seiner zuverlässigen Strahlsteuerung, der genauen Dosis- und Energiesteuerung und den leistungsstarken Produktionskapazitäten ist VARIAN E 500 eine ideale Wahl für die Produktion und Gleichmäßigkeitskontrolle von Halbleitermaterialien.