Gebraucht VARIAN E500 #9085170 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9085170
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2005
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: front panel
Production wafer qty: single wafer
Platen type: M-clamp
Load lock: Left, right (walkout sensor)
System Vacuum:
Ion source chamber
Beam line chamber
End station chamber
Terminal dry: Ebara 4020
Source TMP: Seiko STP-1000C
Source TMPC: Seiko STP-1000C
Resol TPM: Seiko STP-301C
Resol TMPC: Seiko STP-301
Beam line TMP: Seiko STP-1000C
Beamline TMPC: missing
Endstation C/P: CTI On-Board 10F
Compressor: Suzuki
Load lock TMP: Varian CTI100
Load lock TMPC: Varian CTI100
Endstation dry: Ebara 5020 + boost
Process Gases:
AsH3: SDS type, VCR 1/2"
PH3: SDS type, VCR 1/2"
BF3: SDS type, VCR 1/2"
Ar(N2): DISS type, CGA 580
Power Supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: missing
Source Magnet: 20V, 50A
Extraction: missing
Extraction suppression: missing
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max 150A)
Mirror power supply: 30kV, 2.5mA
(2) Quadrupole Magnet: 20V, 50A
Scan generator: -30kV, 10mA
Mirror: missing
Dipole lens magnet: 40v, 125A (Max 150A)
Acceleration: missing
Acceleration suppression: -5kV, 5mA
Acceleration stack: missing
Controller:
Left Arm Servo
Right Arm Servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt Servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Linear motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp Monitor
Terminal PD DC PS: missing
Options:
Beam energy probe: yes
2_step beam reducer: not used
Auto decel: missing
Gas box type: HP (2 SDS bottles, insert)
Soruth type: Bernas
Faraday type: Varian scanning Faraday
Vaporizer PS: none
Utilities:
Power: 208VAC, 3 phase, 5 wires, 43.2 KVA, 120 FLA
Air: 100 ~ 150 PSI
N2: 40 ~ 150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI, 4-21°C
High Voltage Range:
Extraction power supply: 0 keV - 70 keV
Acceleration power supply: 0 keV - 180 keV
1995 vintage.
VARIAN E500 ist ein Hochleistungs-Ionenimplantator und -monitor, der für eine Vielzahl von Ionenimplantationsanforderungen entwickelt wurde. Es nutzt eine platzsparende Stromversorgung aus einer Hand und kann Ionenstrahlenergien von 1 keV bis 10 keV handhaben. VARIAN E 500 verfügt über einen modularen Aufbau, der eine niedrige Energiegenauigkeit der Implantation mit hohem Ionenstrom kombiniert. Diese überlegene Flexibilität bietet maximale Produktivität für eine Vielzahl von Herstellungsvorgängen von Halbleiterbauelementen. Neben dem modularen Aufbau verfügt E-500 über die neueste Generation der VARIAN Tandem-Technologie und bietet eine hochpräzise, hocheffiziente Implantation von Ionen in verschiedene Wafergrößen und -materialien. Es verwendet eine hochentwickelte Tandemtechnologie, die verbesserte Strahlgleichförmigkeit, zeitliche Kontrolle und Genauigkeit schafft. VARIAN E- 500′s Steuergeräte verwenden die neuesten erweiterten VARIAN ACCeDirect (ActiveConfigured Control), die ein vollautomatisches Fehlerüberwachungssystem bieten. Mit der ACCeDirect-Einheit kann E 500 einfach durch verschiedene Sensoren überwacht werden, einschließlich Ende der Implantatüberwachung, sowie Strahlimpulsdauer und Strahlpositionierungsrückkopplung. Darüber hinaus bietet diese Maschine erweiterte Datenanalyse- und Steuerungsfunktionen, die die Gleichmäßigkeit und Präzision des Spitzenstrahls während des Produktionsprozesses unterstützen. E500′s Elektrowerkzeug verfügt über ein leistungsstarkes HF-Netzteil mit bis zu 10kW Strahlenergie. Dies in Kombination mit dem modularen Aufbau ermöglicht es, niederenergetische Ionen bei hohen Strömen zu implantieren. Dies hat VARIAN E500 in die Lage versetzt, signifikant niedrigere Dosisraten als die meisten anderen kommerziellen Ionenimplantatoren zu produzieren. VARIAN E 500 ist mit einem IEEE-488 Kommunikationsstandard gebaut, so dass es einfach in andere Arten von Produktionsanlagen integriert werden kann. Es wird auch von der Verpflichtung von VARIAN unterstützt, die höchste technische Unterstützung zu bieten. Insgesamt ist E-500 ein leistungsfähiger, aber hocheffizienter und benutzerfreundlicher Ionenimplantator und -monitor. Es bietet ausgezeichnete Implantationsfähigkeit und Produktivität mit einstellbaren Strahlenergien und Präzisionssteuerungsoptionen. Darüber hinaus ist es mit einer Vielzahl von Geräten kompatibel und bietet eine offene Architektur für eine einfache Integration in bestehende Produktionsprozesse. VARIAN E-500 ist eine ideale Lösung für jede Halbleiterherstellungsanlage, die einen Hochleistungs-Ionenimplantator auf Plasmabasis benötigt.
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