Gebraucht VARIAN E500 #9206611 zu verkaufen

ID: 9206611
Weinlese: 1993
Medium current ion implanter, 6" Signal tower: Front panel Platen type: M-clamp Loadlock: Left, right No CVCF Option System vacuum: Ion source chamber Beamline chamber End station chamber Pumps: Terminal: Dry pump Turbo pump & (3) controllers E/S Chamber: Dry pump Dry pump / Booster pump Cryo pump L/L Cryo Maker / Model / Class EDWARDS / QDP80 / Terminal dry PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC PFEIFFER / TPH 240 / Beamline TMP PFEIFFER / TCP 121 / Beamline TMPC CTI / 250 / Endstation C/P CTI / 8500 / Compressor VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC EDWARDS / 5020+boost / End station dry Process gas: AsH3: HP Type, VCR 1/2" PH3: HP Type, VCR 1/2" BF3: HP Type, VCR 3/8" Ar(N2): HP Type, CGA 580 (Non gas line) High voltage range: Extraction power supply: 0 keV~70 keV Acceleration power supply: 0 keV ~ 180 keV Power supplies: Arc: 300VDC, 15A Filament: 7.5VDC, 200A Source magnet: 20V, 50A Extraction: 70kV (Max:75kV), 50mA Extraction suppression: -2kV, 50mA Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A) Mirror power supply (decel): 30kV, 2.5mA Quadrupole magnet #1: 20V, 50A Quadrupole magnet #2: 20V, 50A Scan generator controller: -30kV, 10mA Mirror: 60kV, 1.2mA Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A) Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA) Acceleration suppression: -5 kV, 5 mA Scan trek power supply: 30 kV Isolation transformer assy: 70 kV Controller (Assembly): Left arm servo Right arm servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt servo Vertical lift orienter Uniformity Liner motor servo amp Orienter Left elevator Right elevator Dose integrator DI Temp monitor Options: No beam energy probe No 2 step beam reduser No auto deceleration Gas box type: HP Source type: Bernas Faraday type: VARIAN Scanning faraday Utilities: Air: 100~150 psi N2: 40~150 psi Cooling water: 60~150 psi Temperature: 4~21°C Power: 208VAC, 3-Phase, 5 Wires, 43.2kVA, 120FLA 1993 vintage.
VARIAN E500 ist ein Ionenimplantierer und -monitor, der für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Plasmaätzen und Ionenimplantationen entwickelt wurde. Es ist ein vielseitiges Werkzeug zur Gerätestufenkontrolle sowie hochenergetische Implantationsanwendungen. Darüber hinaus bietet VARIAN E 500 eine Reihe von Prozess- und Steuerungsfunktionen, die es ermöglichen, in verschiedenen Arten von Implantationsprozessen eingesetzt zu werden. Das System nutzt ein patentiertes Triple-Junction-Design, um Ionen für die Implantation genau zu lenken. Es ist mit einem zweiachsigen Bühnendesign zur präzisen Positionierung der zu implantierenden Probe ausgestattet. Dies wird mit einem mechanischen Encoder und einem Bordcomputer erreicht, so dass die Maschine Proben in dem entsprechenden Bereich für die Implantation genau lokalisieren kann. E-500 ist imstande, Arsen, Bor, Phosphor und Antimon zu implantieren. Es kann auch zur Implantation von Phosphor in hochenergetische implantierte Strukturen verwendet werden. E500 ist in der Lage, eine breite Palette von Dosierungen zur Verfügung zu stellen, so dass Hersteller Implantationsparameter für alle Arten festlegen können und eine breite Palette von Daten verfolgen können. Es ist speziell für die Überwachung des Implantationsprozesses konzipiert und hat die Fähigkeit, Fehlfunktionen oder Unvollkommenheiten in der Probe zu erkennen. Dies hilft, mögliche Schäden zu vermeiden, die sonst irreversible Schäden am fertigen Produkt verursachen würden. Es ist auch in der Lage, die Temperaturen innerhalb der Kammer während jedes Implantationszyklus zu überwachen und gegebenenfalls entsprechend einzustellen. VARIAN E-500 ist mit einer innovativen Fernzugriffsfunktion ausgestattet, so dass Benutzer das System von überall aus überwachen können. Diese Funktion ist nützlich für diejenigen, die bei Implantationen nicht physisch an der Maschine sein können. Durch diese Funktion kann die manuelle Eingabe aus der Ferne erfolgen und auf die während des Implantationsprozesses gesammelten Daten aus der Ferne zugegriffen werden. Insgesamt ist E 500 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Implantations- und Kontrollwerkzeug für hochenergetische etablierte und etablierte Prozesse. Es bietet eine breite Palette von Prozessen und Steuerungsfunktionen sowie eine Fernzugriffsfunktion, die die Überwachung und Anpassung der Implantationsparameter erleichtert. Damit ist VARIAN E500 ein ideales Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Plasmaätzen und Ionenimplantationen.
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