Gebraucht VARIAN E500 #9206611 zu verkaufen
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ID: 9206611
Weinlese: 1993
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: Front panel
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left, right
No CVCF Option
System vacuum:
Ion source chamber
Beamline chamber
End station chamber
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump & (3) controllers
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Maker / Model / Class
EDWARDS / QDP80 / Terminal dry
PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP
PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC
PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP
PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC
PFEIFFER / TPH 240 / Beamline TMP
PFEIFFER / TCP 121 / Beamline TMPC
CTI / 250 / Endstation C/P
CTI / 8500 / Compressor
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC
EDWARDS / 5020+boost / End station dry
Process gas:
AsH3: HP Type, VCR 1/2"
PH3: HP Type, VCR 1/2"
BF3: HP Type, VCR 3/8"
Ar(N2): HP Type, CGA 580 (Non gas line)
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~70 keV
Acceleration power supply: 0 keV ~ 180 keV
Power supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 70kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply (decel): 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator controller: -30kV, 10mA
Mirror: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5 kV, 5 mA
Scan trek power supply: 30 kV
Isolation transformer assy: 70 kV
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
No beam energy probe
No 2 step beam reduser
No auto deceleration
Gas box type: HP
Source type: Bernas
Faraday type: VARIAN Scanning faraday
Utilities:
Air: 100~150 psi
N2: 40~150 psi
Cooling water: 60~150 psi
Temperature: 4~21°C
Power: 208VAC, 3-Phase, 5 Wires, 43.2kVA, 120FLA
1993 vintage.
VARIAN E500 ist ein Ionenimplantierer und -monitor, der für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Plasmaätzen und Ionenimplantationen entwickelt wurde. Es ist ein vielseitiges Werkzeug zur Gerätestufenkontrolle sowie hochenergetische Implantationsanwendungen. Darüber hinaus bietet VARIAN E 500 eine Reihe von Prozess- und Steuerungsfunktionen, die es ermöglichen, in verschiedenen Arten von Implantationsprozessen eingesetzt zu werden. Das System nutzt ein patentiertes Triple-Junction-Design, um Ionen für die Implantation genau zu lenken. Es ist mit einem zweiachsigen Bühnendesign zur präzisen Positionierung der zu implantierenden Probe ausgestattet. Dies wird mit einem mechanischen Encoder und einem Bordcomputer erreicht, so dass die Maschine Proben in dem entsprechenden Bereich für die Implantation genau lokalisieren kann. E-500 ist imstande, Arsen, Bor, Phosphor und Antimon zu implantieren. Es kann auch zur Implantation von Phosphor in hochenergetische implantierte Strukturen verwendet werden. E500 ist in der Lage, eine breite Palette von Dosierungen zur Verfügung zu stellen, so dass Hersteller Implantationsparameter für alle Arten festlegen können und eine breite Palette von Daten verfolgen können. Es ist speziell für die Überwachung des Implantationsprozesses konzipiert und hat die Fähigkeit, Fehlfunktionen oder Unvollkommenheiten in der Probe zu erkennen. Dies hilft, mögliche Schäden zu vermeiden, die sonst irreversible Schäden am fertigen Produkt verursachen würden. Es ist auch in der Lage, die Temperaturen innerhalb der Kammer während jedes Implantationszyklus zu überwachen und gegebenenfalls entsprechend einzustellen. VARIAN E-500 ist mit einer innovativen Fernzugriffsfunktion ausgestattet, so dass Benutzer das System von überall aus überwachen können. Diese Funktion ist nützlich für diejenigen, die bei Implantationen nicht physisch an der Maschine sein können. Durch diese Funktion kann die manuelle Eingabe aus der Ferne erfolgen und auf die während des Implantationsprozesses gesammelten Daten aus der Ferne zugegriffen werden. Insgesamt ist E 500 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Implantations- und Kontrollwerkzeug für hochenergetische etablierte und etablierte Prozesse. Es bietet eine breite Palette von Prozessen und Steuerungsfunktionen sowie eine Fernzugriffsfunktion, die die Überwachung und Anpassung der Implantationsparameter erleichtert. Damit ist VARIAN E500 ein ideales Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, Plasmaätzen und Ionenimplantationen.
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