Gebraucht VARIAN EHP-500 #9015612 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9015612
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
Medium current ion implanter, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat)
Wafer cassette: 8" plastic Miraial
No SMIF interface
Power distribution: 208 V, 60 Hz, 75 kVA, 3 phase Y-connection
Control system: 1 GHz computer
Software version: 13.43.29
Beam energy:
5-250 keV (single charged ion)
250-500 keV (double charged ion)
500-750 keV (triple charged ion) auto accel/decel mode
Gasbox 1: Ar HP external supply
Gasbox 2: BF3 HP
Gasbox 3: ASH3 SDS
Gasbox 4: PH3 SDS
Cryo pump: Daikin MARATHON-12 V28MC612SMR
Cryo compressor: Daikin U108CW
TMP: Edwards STP-1000C
TMP 2: Edwards STP-1000C
TMP 3: Seiko STP-300C
TMP 4: (2) Varian V-300HT
Ion source: Bernas type, W-Arc chamber
No dual vaporizer
No beam reducer
Platen: E-CLAMP composite
1998 vintage.
VARIAN EHP-500 ist ein Ionen-Implantierer & -Monitor, der in der Lage ist, eine breite Palette von Oberflächenbehandlungen zu produzieren und zu steuern, wodurch eine Vielzahl von Herstellern Materialien mit einer Reihe von physikalischen Eigenschaften verarbeiten können. Es verfügt über einen integrierten Graphitfokusator, eine Elektronenminiatur-Ionenquelle mit erweiterter Tiefe und eine patentierte isolierende Ionenquellenabschirmung. Der leistungsstarke Graphitfokusator in VARIAN EHP500 bietet eine hohe homogene Leistungsdichte auf der nahen und fernen Oberfläche des Substrats und bietet eine höhere Präzision und Kontrolle als vergleichbare Systeme. Darüber hinaus ermöglicht die erweiterte Mini-Elektronen-Ionen-Quelle einen größeren Energiebereich sowie eine erhöhte Eindringtiefe und Homogenität. Das patentierte isolierende Ionenquellen-Abschirmsystem bietet eine konsistentere Behandlung auf der Materialoberfläche, was die Genauigkeit und Wiederholbarkeit weiter verbessert. EHP 500 verfügt über eine Vielzahl von anpassbaren Parametern, um Anwendern zu helfen, das gewünschte Ergebnis aus ihrer Substratbehandlung zu erzielen. Dies beinhaltet eine ganze Reihe von Scan-Parametern, wie Scan-Frequenz, Amplitude, Scan-Geschwindigkeit und Verweildauer, sowie einstellbare Feature-Parameter wie Trimmgröße, Fokustiefe, Lückenzeit und Wafer-Zeit. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen leistungsstarken Prozessmonitor, der den Fortschritt der Behandlung sofort in Echtzeit beurteilen kann, sodass Benutzer erforderliche Korrekturen und Anpassungen vornehmen können. EHP500 verfügt auch über mehrere Sicherheitsmerkmale, um maximale Produktivität und Personenschutz zu gewährleisten. Es ist mit einer Überlastschutzeinheit ausgestattet, die bei einem Verlust von Spannung, Last oder anormalem Strom auftritt, und wird automatisch abgeschaltet, wenn unsichere Zustände vorliegen. Zusätzlich wird die Software des Geräts kontinuierlich überwacht, um mögliche Unfälle oder Störungen in der Hardware zu erkennen, bevor sie auftreten können. Abschließend ist EHP-500 ein effizienter und zuverlässiger Ionen-Implantierer & -Monitor auf dem Markt, der Anwendern präzise und wiederholbare Oberflächenbehandlungen und zahlreiche einstellbare Parameter für maximale Kontrolle bietet. Der leistungsstarke Graphitfokusator, die Elektronen-Mini-Ionen-Quelle mit erweiterter Tiefe und die isolierende Ionenquellen-Abschirmmaschine bieten eine unübertroffene Genauigkeit und Vielseitigkeit, während der integrierte Prozessmonitor und die Sicherheitsfunktionen für maximale Sicherheit und Produktivität sorgen.
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