Gebraucht VARIAN EHP-500 #9015612 zu verkaufen

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ID: 9015612
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
Medium current ion implanter, 8" Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat) Wafer cassette: 8" plastic Miraial No SMIF interface Power distribution: 208 V, 60 Hz, 75 kVA, 3 phase Y-connection Control system: 1 GHz computer Software version: 13.43.29 Beam energy: 5-250 keV (single charged ion) 250-500 keV (double charged ion) 500-750 keV (triple charged ion) auto accel/decel mode Gasbox 1: Ar HP external supply Gasbox 2: BF3 HP Gasbox 3: ASH3 SDS Gasbox 4: PH3 SDS Cryo pump: Daikin MARATHON-12 V28MC612SMR Cryo compressor: Daikin U108CW TMP: Edwards STP-1000C TMP 2: Edwards STP-1000C TMP 3: Seiko STP-300C TMP 4: (2) Varian V-300HT Ion source: Bernas type, W-Arc chamber No dual vaporizer No beam reducer Platen: E-CLAMP composite 1998 vintage.
VARIAN EHP-500 ist ein Ionen-Implantierer & -Monitor, der in der Lage ist, eine breite Palette von Oberflächenbehandlungen zu produzieren und zu steuern, wodurch eine Vielzahl von Herstellern Materialien mit einer Reihe von physikalischen Eigenschaften verarbeiten können. Es verfügt über einen integrierten Graphitfokusator, eine Elektronenminiatur-Ionenquelle mit erweiterter Tiefe und eine patentierte isolierende Ionenquellenabschirmung. Der leistungsstarke Graphitfokusator in VARIAN EHP500 bietet eine hohe homogene Leistungsdichte auf der nahen und fernen Oberfläche des Substrats und bietet eine höhere Präzision und Kontrolle als vergleichbare Systeme. Darüber hinaus ermöglicht die erweiterte Mini-Elektronen-Ionen-Quelle einen größeren Energiebereich sowie eine erhöhte Eindringtiefe und Homogenität. Das patentierte isolierende Ionenquellen-Abschirmsystem bietet eine konsistentere Behandlung auf der Materialoberfläche, was die Genauigkeit und Wiederholbarkeit weiter verbessert. EHP 500 verfügt über eine Vielzahl von anpassbaren Parametern, um Anwendern zu helfen, das gewünschte Ergebnis aus ihrer Substratbehandlung zu erzielen. Dies beinhaltet eine ganze Reihe von Scan-Parametern, wie Scan-Frequenz, Amplitude, Scan-Geschwindigkeit und Verweildauer, sowie einstellbare Feature-Parameter wie Trimmgröße, Fokustiefe, Lückenzeit und Wafer-Zeit. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen leistungsstarken Prozessmonitor, der den Fortschritt der Behandlung sofort in Echtzeit beurteilen kann, sodass Benutzer erforderliche Korrekturen und Anpassungen vornehmen können. EHP500 verfügt auch über mehrere Sicherheitsmerkmale, um maximale Produktivität und Personenschutz zu gewährleisten. Es ist mit einer Überlastschutzeinheit ausgestattet, die bei einem Verlust von Spannung, Last oder anormalem Strom auftritt, und wird automatisch abgeschaltet, wenn unsichere Zustände vorliegen. Zusätzlich wird die Software des Geräts kontinuierlich überwacht, um mögliche Unfälle oder Störungen in der Hardware zu erkennen, bevor sie auftreten können. Abschließend ist EHP-500 ein effizienter und zuverlässiger Ionen-Implantierer & -Monitor auf dem Markt, der Anwendern präzise und wiederholbare Oberflächenbehandlungen und zahlreiche einstellbare Parameter für maximale Kontrolle bietet. Der leistungsstarke Graphitfokusator, die Elektronen-Mini-Ionen-Quelle mit erweiterter Tiefe und die isolierende Ionenquellen-Abschirmmaschine bieten eine unübertroffene Genauigkeit und Vielseitigkeit, während der integrierte Prozessmonitor und die Sicherheitsfunktionen für maximale Sicherheit und Produktivität sorgen.
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