Gebraucht VARIAN EHP-500 #9092902 zu verkaufen
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ID: 9092902
Wafergröße: 4"
Weinlese: 2001
Medium current ion implanter, 4"
Rotating, uncooled platen with silicon-coated 6-point clamp
(225) Wafer capacity highly polished load locks
Tungsten Bernas Ion source
HP gas box
Inert (Ar) connection
2-Stage low beam aperture
Ion beam filter
End station pumping: (2) varian 300HT loadlock turbo, (1) CT-10 chamber Cryo
Metals reduction kit
Si-coated acceleration column
Graphite target chamber side wall shields
Resolving chamber cold cathode vacuum gauge
V11 S/W, real time beam, purity check S/W
SECSII host communications
2000 vintage.
VARIAN EHP-500 ist ein Ionenimplantator und Monitor für die Halbleiterindustrie. Es ist in der Lage, hochenergetische Dotierstoffpartikel mit hoher Präzision zu produzieren und gleichzeitig zuverlässige Genauigkeit und Überwachungsmöglichkeiten bereitzustellen, um sicherzustellen, dass die gewünschte Implantationsrate erreicht wird. Der Implantierer verfügt über eine integrierte Stromversorgung mit hoher Stromgenauigkeit und Stabilität. Es ist in der Lage, eine Reihe von Energien mit bis zu 20 Mikroampere auf Dotierstoffpartikel zur Verfügung zu stellen und kann bis zu 36.000 Watt Leistung aufnehmen. Auf diesen Ebenen kann VARIAN EHP500 leicht hochenergetische Elemente im Bereich der 1-500KeV einspritzen und überwachen. Auf diese Weise kann der Implantierer Implantate verschiedener Dotierstoffe an die spezifischen Anwendungsanforderungen anpassen. EHP 500 verwendet auch Ionenstrahlenergie-Steuer- und Überwachungssoftware, die eine einfache Überprüfung des Energieprofils des Strahls vor und während der Implantation ermöglicht. Bediener können diese Software verwenden, um bis zu neun verschiedene Strahlenergien und eine variable Anzahl von Dauern für maximale Implantatgenauigkeit zu verwalten. Zusätzlich bietet die Software Echtzeit-Diagnose-Feedback, um bei der Prozessoptimierung zu helfen. Neben seinen leistungsstarken Implantationsmöglichkeiten bietet EHP500 Monitor auch In-situ-Ionen-Artenüberwachung und Hochgeschwindigkeits-Datenerfassung und -analyse des Abscheidungsprozesses. Sein massenspektrometrischer Detektor ist eng in das System zur Analyse und Steuerung des Ionenstrahls integriert. Der Monitor misst das Ausmaß der Implantattiefe mit 10nm Auflösung, so dass der Bediener die Implantattiefe und Energie über verschiedene Substrate anpassen kann. EHP-500 soll Genauigkeit und Zuverlässigkeit bei der Herstellung von Halbleiterimplantaten garantieren. Seine Stromversorgung und Software bieten Anwendern die genaue Kontrolle und Rückmeldung, die sie benötigen, um sicherzustellen, dass Implantate nach höchsten Standards hergestellt werden.
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