Gebraucht VARIAN EHP-500 #9142690 zu verkaufen

VARIAN EHP-500 Ionenimplantator ist ein vielseitiges und zuverlässiges Ionenimplantationsgerät mit der Fähigkeit, Hochstrom-Ionen sicher und präzise in Halbleiter- und Silizium-Wafer zu implantieren. Dieses System ist mit einem Hochspannungsgerät nach dem neuesten Stand der Technik ausgestattet, das eine maximale Spannung von 40 kV erreichen kann und eine große Flexibilität für die Ionenimplantation über eine breite Palette von Substratmaterialien bietet. Die Fähigkeit, Partikel bis zu 200 keV zu handhaben, ermöglicht es, verschiedene Materialien zu implantieren und gleichzeitig ein hochgenaues Ergebnis zu gewährleisten. Die Implantationskammer ist für das Einfügen von Ionisationsquellen ausgelegt, von denen der Großteil in situ durchgeführt werden kann, was einen schnelleren und effizienteren Durchsatz von Substraten ermöglicht. Darüber hinaus ist die Kammer für die Handhabung von Überdruck bis zu 10-4 Torr ausgelegt, so dass sie sowohl für die trockene als auch für die nasse Einführung von Ionen in den Wafer geeignet ist. VARIAN EHP500 ist für eine breite Palette von Substraten konzipiert und besteht aus Materialien, die leitfähig, korrosionsbeständig und strahlungsdicht sind. Neben der Implantationskammer ist EHP 500 mit einem ausgeklügelten Ionenmonitor ausgestattet, der eine Reihe von Parametern im Implantationsprozess überwachen kann. Dazu gehören Strahlstrom, Strahlposition, Strahlausrichtung, ionenkinetische Energie, Substratabstand, Substrattemperatur und Dotierungskonzentration. Der Monitor ist außerdem in der Lage, Daten in Echtzeit und nach dem Implantat zu protokollieren, sodass die Anwender Implantationsparameter schnell und genau analysieren und anpassen können. Darüber hinaus verfügt EHP500 über eine grafische Benutzeroberfläche, die es dem Bediener ermöglicht, jeden der Implantationsprozesse über einen grafischen Bildschirm visuell zu steuern. Beispielsweise kann ein Bediener die Strahlausrichtung, Ionenenergie, Substratabstand und andere Parameter direkt vom Monitor aus in Sekundenschnelle einstellen. Die Benutzeroberfläche ermöglicht eine schnelle Trendwende von Implantaten und erleichtert auch die Messung von Postimplantationsparametern, wie Leckstrom und Kreuzungstiefencharakterisierung, so dass nur die hochwertigsten implantierten Proben geliefert werden. Schließlich ist EHP-500 mit einer sekundären Elektrosprüheinheit ausgestattet, die in der Lage ist, ein elektrisches Feld zu erzeugen, um Ionen schnell in die Implantationskammer zu bewegen, was bei niedrigen Geschwindigkeiten des Substrats sehr gleichmäßige und reproduzierbare Ergebnisse ermöglicht. Diese fortschrittliche Einheit eignet sich für alle Arten von Implantationen, z. B. für niedrige Dosen und Hochspannung. Abschließend ist VARIAN EHP 500 eine zuverlässige, vielseitige und hochgenaue Ionenimplantationsmaschine, die in verschiedene Substrate implantiert werden kann. Die ausgeklügelte Monitor- und Benutzeroberfläche ermöglicht eine einfache Bedienung des Implantationsprozesses, während die fortschrittliche Elektrosprüheinheit eine genaue und gleichmäßige Implantation in jede Probe gewährleistet.