Gebraucht VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON 350D #293652051 zu verkaufen

VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON 350D ist ein Ionenimplantator und -monitor, der zur präzisen Implantierung von Halbleitern entwickelt wurde. Es ist in der Lage, einzelne und mehrere Ionen-Implantat-Stufen, so dass es eine leistungsfähige Wahl für jeden Produktionsprozess. Der Implantierer ist mit einem horizontalen Wafer-Handling-System, einer robusten doppelseitigen Präzisionsregelung des Abtastwinkels, einer Wafertemperaturregelung und einstellbaren Hochspannungsparametern ausgestattet. Zusätzlich ist TEL 350D mit einem leistungsstarken digitalen Ionenstrahlanalysator zur Dosiskontrolle und Gleichmäßigkeit ausgestattet. VARIAN 350D hat eine Reihe einstellbarer Parameter und kann sowohl positive als auch negative Ionen implantieren. Es ist auch mit insgesamt 10 Kanälen ausgestattet, um simultane Operationen verschiedener Materialtypen und Isotope zu ermöglichen. Die doppelseitige Steuerung verwendet einen einzigartigen C-förmigen Strahlkollimator für eine erhöhte Genauigkeit des Abtastwinkels, und die Gleichmäßigkeit der implantierten Dosis wird mit einstellbaren Spannungs- und Stromparametern verbessert. TOKYO ELECTRON 350D ermöglicht eine kurze Implantation von zwei bis vier Millimetern Durchmesser und seine Vielseitigkeit macht es geeignet für die Implantation einer Vielzahl von Materialien, wie Phosphor, Arsen, Bor, Indium und Gallium. Das Wafer Handling System von 350D sorgt mit seinen automatisierten Zentrier-, Ausrichtungs- und Scanfunktionen für höchste Qualitätskontrolle. Darüber hinaus ermöglicht die Wafertemperaturregelung gleichmäßige Oberflächen und eine verbesserte Stabilität während des gesamten Implantierungsprozesses. Der digitale Ionenstrahlanalysator bietet Dosiskontrolle und Gleichmäßigkeit sowie Echtzeit-Feedback, was eine erhöhte Genauigkeit ermöglicht. Schließlich ist VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON 350D mit einem branchenführenden Überwachungssystem für die 360 ° -Strahlabdeckung ausgestattet, das einen vollständig rückverfolgbaren Implantationsprozess mit einem ausführlichen Bericht gewährleistet, der nach Abschluss der Operationen erstellt wurde. Diese beispiellose Steuerung macht TEL 350D zu einer leistungsstarken Wahl für die präzise Implantation von Halbleitern.