Gebraucht VARIAN VIISion 80 #9065690 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9065690
High current ion implanter, 8" Enhanced End Station Includes: Software version: Ver 5.00.00 Gas box: HP Gas box Turbo pump: Ion source (1800A) E/S: V300HT (2) Beamline: V1001 Dry pump: Terminal: Edwards iQDP80 Chamber: iQDP80 Gas bottle #1: Ph3 - SDS Gas bottle #2: AsH3 - SDS Gas bottle #3: BF3 - High pressure Gas bottle #4: Ar - High pressure W/H: N6 Software: Memory upgrade LEB Kit: Yes DISC: Hook site Cryo pump: (4) 250F CTI Load lock pump: V300HT Compressor: CTI 8500 Wafer handler: Enhancement type Main monitor: LCD Exhaust box: Duct box Source head: Bernas Filter +/- 7ª Exhaust Signal tower Currently de-installed and stored in warehouse 1995 vintage.
VARIAN VIISion 80 ist ein Hochleistungs-Ionen-Implantierer und -Monitor, der hervorragende Ergebnisse bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen liefert. Das Gerät verwendet ein fortschrittliches Strahlsystem, das eine genaue und wiederholbare Dosissteuerung bietet. VIISion 80 ist in der Lage, Ionen mit hoher Frequenz und Genauigkeit in Siliziumwafer zu implantieren. Es enthält eine breite Palette von Funktionen, die es dem Benutzer ermöglichen, Parameter für eine Vielzahl von Prozessen schnell anzupassen. VARIAN VIISion 80 basiert auf einer hochauflösenden Bildverarbeitungseinheit, die eine hervorragende Wiederholbarkeit bietet und eine Genauigkeit von 6 σ aufweist. Die bildgebende Maschine verfügt über einen hohen Dynamikbereich, der eine hochpräzise Ionenstrahlsteuerung in verschiedenen Anwendungen ermöglicht. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, eine Breitbandfrequenzmanipulation für eine Vielzahl von Halbleiterbauelementen durchzuführen. VIISion 80 verfügt über eine robuste und effiziente Strahllieferung, die eine breite Palette an Implantationen ermöglicht. Es kann Ionen mit hohen Geschwindigkeiten mit ausgezeichneter Genauigkeit und Wiederholbarkeit implantieren. Das Modell nutzt einen dynamischen Bereich von Ionenenergien, um sicherzustellen, dass die entsprechenden Ionen an den richtigen Stellen implantiert werden. VARIAN VIISion 80 verfügt über eine anspruchsvolle, hochempfindliche Überwachungseinrichtung, die eine genaue Überwachung sowohl der Strahl- als auch der Dotierungsparameter ermöglicht. Das System kann Implantationsrate, Dosisrate, Strahlwinkel, Waferwinkel und andere Daten analysieren. Die Überwachungseinheit kann auch Substratschäden auf niedrigem Niveau erkennen, so dass der Benutzer schnell auf kritische Prozessprobleme reagieren kann. VIISion 80 verfügt zudem über eine ausgeklügelte Datenverarbeitungs- und Analysemaschine, die ein hohes Maß an Genauigkeit und Kontrolle ermöglicht. Es enthält erweiterte Funktionen zur Analyse statistischer Daten und ermöglicht es dem Benutzer, die Parameter für eine Vielzahl von Prozessen schnell anzupassen. Darüber hinaus enthält VARIAN VIISion 80 eine fortschrittliche Software zur Berechnung von Implantationsdosen, die genauere Implantationen ermöglicht. VIISion 80 ist eine leistungsstarke und kostengünstige Lösung für die erfolgreiche Implementierung fortschrittlicher Halbleiterelektronik. Seine hochgenauen Bildgebungs-, Strahlabgabe- und Überwachungssysteme ermöglichen es, Präzisionsimplantate mit hervorragenden Ergebnissen zu versorgen. Seine vielseitigen Datenverarbeitungs- und Analysewerkzeuge machen es zu einer guten Wahl für jeden Halbleiterherstellungsprozess.
Es liegen noch keine Bewertungen vor