Gebraucht VARIAN VIISion 80 #9181390 zu verkaufen

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ID: 9181390
Ion implanter, 8" Vacuum pump: Terminal dry pump type: terminal, Edwards iQDP80 Chamber dry pump type: terminal, Edwards iQDP80 L/L dry pump type: V300HT Gas system: Gas / Connection Type Gas channel #1: AsH3 gas SDS, 3.4L high pressure Gas channel #2: PH3 gas SDS, 3.4L high pressure Gas channel #3: Ar gas high pressure, 3.4L high pressure Gas channel #4: BF3 gas high pressure, 3.4L high pressure PFG gas: Xe gas CGA580 Utility: Supply type: bottom Compressor: CTI 8500 Wafer handler: enhancement type Main monitor: LCD Exhaust: duct box Source head: Bernas Tilter +/- 7 degrees, signal tower Missing parts: L/L chamber turbo pump Elevator3 digital I/O PCB (4) Chamber cryo pumps Disk assy Source turbo controller E/S controller CPU boards Source turbo pump 1995 vintage.
VARIAN VIISion 80 ist ein Ionenimplantator und -monitor zur Herstellung von ionisierten Materialien und zur Überwachung von Ionenimplantatprozessen. Es ist ein Werkzeug, das verwendet wird, um eine breite Palette von Dotierungsprofilen zu verarbeiten, die für mehrere Anwendungen entwickelt wurden, von gängigen Halbleitermaterialien bis hin zu fortgeschrittenen Verbundhalbleitern. Darüber hinaus bietet VIISion 80 beispiellose Durchsatzraten, Präzision und Genauigkeit für eine optimale Ionen-Implantat-Prozesssteuerung. VARIAN VIISion 80 besteht aus zwei getrennten Komponenten: dem Ionenstrahlgenerator und dem Bedienpult. Der Ionenstrahlgenerator ist eine verlustarme, hochzuverlässige, rauscharme und vibrationsarme Ionenquelle, die den Ionenimplantatprozess extrem zuverlässig macht. Diese Ionenquelle ist in der Lage, einen nahezu kontinuierlichen Strahl von Ionen zu erzeugen, die ausreichend stabil sind, um eine exakte Steuerung des Implantats zu ermöglichen. Die Steuerkonsole ist die Befehlszentrale für den Implantierer und für die Steuerung, Überwachung und Durchführung des Implantatprozesses zuständig. Es besteht aus einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche (GUI) und programmierbaren Logikcontrollern (SPS), die es dem Benutzer ermöglichen, Implantatparameter zu steuern, den Implantationsprozess zu überwachen und die Ergebnisse für eine spätere Überprüfung zu speichern. VIISion 80 bietet dem Anwender maximale Prozesskontrolle mit modernsten Fertigungstechniken und ausgefeilter Instrumentierung. Um die höchste Qualität und Genauigkeit der Implantation zu gewährleisten, verwendet VARIAN VIISion 80 eine Multiple Source-Technik für erhöhte Strahlstabilität und beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Implantatdosierung. Die Mehrfachquelltechnik erhöht auch die Lebensdauer der Quelle sowie die allgemeine Prozesssicherheit. VIISion 80 bietet zudem eine hervorragende Ionen-Implantat-Selektivität, die fein abgestimmte Dopingprofile mit einer breiten Palette von Dopingregimes ermöglicht. Dies bietet dem Anwender eine beispiellose Flexibilität und Kontrolle über seine Implantatprozesse. VARIAN VIISion 80 ist auch in der Lage, einen Hochstromstrahl mit maximalem Strahlstrom von bis zu 3.5A zu liefern. Darüber hinaus ermöglicht die Schnittstelle der Steuerkonsole die Echtzeitsteuerung von Strahlströmen und Spannungspegeln. Abschließend ist VIISion 80 ein fortschrittlicher Ionenimplantator und -monitor, der eine maximale Prozesskontrolle und Genauigkeit mit beispielloser Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet. VARIAN VIISion 80 bietet Funktionen wie Mehrfachquellentechnik und Hochstromstrahlabgabe, die maximale Flexibilität und Kontrolle über den Implantatprozess gewährleisten. Darüber hinaus ermöglicht die intuitive Bedienoberfläche eine einfache Implantatsteuerung, -überwachung und -überprüfung.
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