Gebraucht VARIAN VIISion 80 #9212872 zu verkaufen

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ID: 9212872
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
Ion implantation system, 8" Vacuum pump EDWARDS iQDP80 Terminal dry pump type EDWARDS iQDP40+QMB250 Chamber dry pump type VARIAN tri scroll pump L/L dry pump type STP1000 Beam line turbopump#1 STP1000 Beam line turbopump#2 VARIAN V250 L/L turbopump (4) CTI, 250F Process chamber cryopumps (2) CTI, 9600 Cryopump compressors Gas system / Gas / MFC Type Gas channel#1 / AsH3 Gas / SDS Gas channel#2 / PH3 Gas / SDS Gas channel#3 / Ar Gas / High pressure Gas channel#4 / BF3 Gas / High pressure PFG gas / Xe Gas / High pressure Memory upgrade CVCF option Wafer size: 200mm Main CB: 90 Amps CVCF CB: 50 Amps Auto disc angle motor Host used, SECS Source head type: Dual bernas Faraday system: Magnet bias, PFG Throughput(WPH): N6 Disc site type: Hook site, 13Sites Elevator type: Modified 26 Lower slide pin Laser align kit: No W/H align kit: No Utility Supply type: Bottom Remote pallet Power: 208 Vac 3 Phase 5 wire, 50/60Hz, 35 kVA Water: 40~100psi Air: 90~125psi PN2: 50~100psi GN2: 50~100psi Exhaust: 1600cfm 1997 vintage.
VARIAN VIISion 80 ist ein High-End-Ionen-Implantierer und -Monitor zur Ionenimplantation und Überwachung von integrierten Schaltungen und anderen Halbleiterbauelementen. Es wurde entwickelt, um überlegene Genauigkeit und Leistung zu bieten, wenn es um die Implantation von Ionen geht, so dass Benutzer exakte Dotierungskonzentrationen und gewünschte Oberflächenprofile auf Werkzeugen erreichen können. Die fortschrittliche Technologie und die intuitive Benutzeroberfläche von VIISion 80 ermöglichen es auch unerfahrenen Mitarbeitern, ein sofortiges Verständnis der Ausrüstung zu erlangen, sodass sie die Einstellungen für verschiedene Substrate schnell ändern können. VARIAN VIISion 80 verfügt über eine Reihe beeindruckender Präzisions- und Sicherheitsmerkmale, die die Genauigkeit, Sicherheit und Effizienz der Ionenimplantation erhöhen. Die Ionenquelle liefert ein gleichmäßiges Muster von hochenergetischen Ionen, wodurch ein konsistentes Implantat für jeden Wafer gewährleistet wird, während die automatisierten Dosierer die Strahlintensität überwachen und entsprechend anpassen. VIISion 80 kommt auch mit einem Zwei-Zonen-optischen Kalibriersystem, das genaue und präzise Auswirkungen des Substrats gewährleistet. Schließlich stellt die fortschrittliche elektronische Überwachungsmaschine der Einheit sicher, dass die genaue Implantation erfolgt. Das Werkzeug enthält eine Reihe von Komponenten und Funktionen, die es in der Lage, die Steifigkeit der Ionenimplantation widerstehen. Es ist in der Lage, Ionen bis zu 20keV zu übertragen und der Strahl kann bis zu 20mm verteilt werden, ohne dass sich die Implantatleistung signifikant verschlechtert. Das optische Quarzfenster des Vermögenswertes wurde für extreme Umweltbedingungen entwickelt, und seine Vakuumkammer hat eine große Bandbreite an Drücken. Die Mehrfachlampen im Modell gewährleisten eine gleichmäßige Beleuchtung, unabhängig von Wafertyp und Größe. Die ausgeklügelte Überwachungsausrüstung von VARIAN VIISion 80 verfolgt kontinuierlich den Implantatprozess und -status und ermöglicht es Benutzern, Änderungen entsprechend den dargestellten Informationen vorzunehmen. Das System ist auch in der Lage, eine breite Palette von Berichten und Grafiken bieten eine detaillierte Analyse und Überprüfung des Implantat-Prozesses. Als Teil des Überwachungspakets bietet der erweiterte Ionenzähler des Geräts eine genaue Anzahl implantierter Ionen in Echtzeit, sodass Benutzer Rätselraten und manuelle Berechnungen eliminieren können. Insgesamt ist VIISion 80 ein außergewöhnlicher Ionenimplantator und -monitor, der viele fortschrittliche Funktionen enthält, die es Anwendern ermöglichen, präzise und genaue Ergebnisse mit stark reduzierten Prozesszeiten und -kosten zu erzielen. Seine intuitive Benutzeroberfläche ermöglicht es Benutzern jeglicher Fachkompetenz, schnell einen Griff zur Ionenimplantation und -einstellungen zu erhalten, sodass erfahrene Mitarbeiter der Stipendiaten die erforderlichen Anpassungen rechtzeitig vornehmen können. Ideal für große industrielle Halbleiteranwendungen.
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