Gebraucht VARIAN VIISta 3000HP #9203292 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9203292
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
High energy implanter, 12"
Energy range: 10 keV to 3750 keV
Voltage divider
Base system
Power Distribution: 60 Hz
Solid state: 0.75 MV D.C.Tandetron(TM)
Accelerator provides:
High output tandem NSI power supply
ASME/TUV Certified accelerator pressure vessel
VIISta single wafer processing end station with integral orientation control 0º- 360º at +/-1º accuracy
Precise control of tilt angle combined with fast recipe controlled stepped tilt modes up to +/- 60º at
An accuracy of +/- 0.1º
Gas cooled electro-static platen
Vertical scanning using linear servo motor driven
Industrial air bearing
Dual wafer capacity: 25
Polished load-locks with independent vacuum control
Load lock: 300 mm
Automatic pumping system includes:
VARIAN Triscroll 300 dry pump for the air-bearing differential seals stage One
Diaphragm roughing pump for the air bearing differential seals stage two
Venturi pump for the air-bearing differential seals stage three
(5) HELIX cryo pumps
(3)400mm HELIX standard capacity cryo pumps on the process chambers
(2) 250F HELIX high capacity cryo pumps located on beamline
(2) PFEIFFER TMH-261 turbomolecular pumps for the end station load locks
Turbomolecular pumping system consisting of:
PFEIFFER TPH 2101 for the source
(2) PFEIFFER TPH 2101 Pumps for the beamline locations
Remote pump kit:
To locate two cryo compressors
DI water system
Remote power distribution system includes
Standard and included in base system: 15 meters
Base system does not include roughing pumps
VARIAN VIISta control system
Microsoft windows NT(TM)/Windows 2000(TM)
Multitasking operating system
Next generation software control system monitoring over 3500 implant
Equipment parameters for optimal system performance
Automatic recipe set-up
Optimization
Control
Production scheduling
WIP Tracking
System diagnostics
Single wafer data logging
HSMS
SECS / GEM Compliant
Multilevel password protected security system
SPC Capability
Small WIP buffer with 4 load ports
Toxic gas box including:
Standard inert gas module
Exhaust connections from the top
source
(3) Standard process gas modules
(3) manometers
(2) exhausts
(5) Gas modules plus Inerts
(3) Plus Inerts are supplied as standard
Long life indirectly heated cathode ion source
Differentially pumped ion source chamber
System S2-93
CE Compliance
High voltage warning displays
3 Locations
System signal tower
Telemechanique
(3) Lights:
Green
Amber
Red
Un-interruptible power supply (UPS) to support control system
platen
EMO Interlocked vesda smoke detection system
Source exhaust flow interlock
Integrated weight handling tools
EMO Safety interlock
Lead floor not required
Required selects
Standard power kit: UES
Standard frequency kit: 60 Hz
Facilities from top
Signal tower: 3 Light standard RYG
Standard gas box internal process / External purge
Gas box exhaust from the top
HP Ar / N2 DISS 718
HP BF3 DISS 642
SDS PH3 VCR 1/2"
SDS AsH3 VCR 1/2"
Standard on tool chiller
Phase 2 IHC source without vaporizer
HELIX standard cryo kit: 400
Standard polyflow cryo exhaust
Customer supplied pumps to VSEA - Edwards iH-80
VSEA Supplied pfeiffer turbo pump kit
Load lock vent standard finish
Vent connection standard finish
High voltage warning display
Remote connection kit standard cryos: 15 Meters
(3)Anometer
gauges 0: 1kPa
Monitors exhaust pressure of the main gas box
Source shroud
Rough pump
Standard UPS
V3000 Factory automation kit: Micron
Includes indicator control kit
E11134600
Hermos integration kit
E11139470
Hokuyu E20000323 x 4
Vacuum connections from the bottom
Thru-beam wafer mapping
Installed Options:
Wafer viewing and wafer Id
SW - SEMI E58 ARAMS compliance
HP BF3 DISS 642
Graphite kit metals reduction
Service monitor PC
Modification in 2009:
V-Mask II upgrade kit
Roplat: 300MM
NCS Computer kit
Modification in 2013:
VIISta 3000 S/N ES154017 upgrade
E11451460 2Ghz Control system
UES
NCS
IAN
Dose controller eprom kit for medium current implanters
E11408090 for EHP dose contrllers
E11436450 for XP/XPT
Dose controllers reference PSB3312L EHP dose contrllrs
PSB3651-XP/XPT dose contrllrs
2005 vintage.
VARIAN VIISta 3000HP ist ein fortgeschrittenes Ionen-Implantiergerät zur Implantation und Analyse von Ionen in Substraten wie Halbleiterscheiben oder Glas. Dieses System besteht aus mehreren Komponenten, die es ermöglichen, mit hoher Präzision zu funktionieren. VARIAN VIISTA 3000 HP Strahllinie beginnt mit der Ionenquelle, wo ein Ionenstrahl erzeugt, manipuliert und fokussiert wird. Die Ionenquelle kann entweder ein Metallverdampfer, eine Metalloxidquelle wie Titan, Zirkonium oder Barium oder eine Feldemissionsionenpistole sein. Nach Bildung des Anfangsstrahls durchläuft die Strahllinie dann die Strahloptikkomponenten einschließlich Massenanalysator und Endblende zur Steuerung des Strahls sowie zur Energieeinstellung. VIISta 3000HP umfasst eine Vielzahl von Analyse- und Implantationskammern. Die Analysekammern ermöglichen eine Isotopentrennung, während die vakuumkompatible Implantationskammer sowohl das Implantieren von Ionen in ein Substrat als auch die Überwachung der Dosisgleichförmigkeit ermöglicht. Weitere Merkmale der Einheit sind eine robuste kapazitiv oder induktiv gekoppelte Plasma- (CPI) -Quelle, die eine stabile und schnelle Implantation gewährleistet und gleichzeitig energiereiche und Single-Ionen-Implantationsmöglichkeiten ermöglicht. VIISTA 3000 HP kommt auch mit einer ganzen Reihe von Peripheriegeräten ausgestattet, einschließlich einer 1kV Installation, einem vierkanaligen Strahlstromwandler, einem Drosselventil und einem Ionenstrommonitor. Es enthält auch einen vollautomatischen, roboterhaltigen Probenhänger. Alle diese Komponenten arbeiten in Verbindung, um eine wiederholbare und genaue Implantationsleistung zu gewährleisten. VARIAN VIISta 3000HP steht an der Spitze der Implantationstechnologien und ermöglicht eine präzise Dotierungssteuerung mit benutzerfreundlichen und flexiblen Maschinenfunktionen. Diese fortschrittliche Maschine bietet Hochleistungs-Implantation mit niedriger Energie, Minimierung der Schäden durch Ionenbeschuss unter Beibehaltung hoher Implantationsraten. Es verfügt auch über ein erweitertes Steuerungstool, das programmierbare Rezepte und Parametereinstellungen für automatisierte Prozesse bietet. Mit der neuesten Technologie bietet VARIAN VIISTA 3000 HP eines der zuverlässigsten und konsistentesten verfügbaren Implantationssysteme.
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