Gebraucht VARIAN VIISta 3000HP #9210718 zu verkaufen

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ID: 9210718
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2005
Ion implanter, 8" Main circuit breaker: 225 AMP Maximum beam energy: 3,750 KeV Exhaust flow rate: 21~24 m³/min PCW: Input: 60~ 100 PSIG 60~ 100 PSIG Flow rate: 20 GPM Input temperature: 16~19°C Pressure: N2: 55~100 PSIG Ar: 50~100 PSIG Air: 90~100 PSIG Implant dose accuracy: Dose range: 5E10 to 1E16 ions/cm² Uniformity: 1s < 0.5% Repeatability: 1s < 0.5% (Wafer-to-wafer, cassette-to-cassette) Beam parallelism: < 0.5° in X & Y Axis Ion mass resolution: M//DM > 80 Throughput: 250 wph Wafer breakage: 1:100000 Process angles wafer tilt: -60° to +60° Programmable in 1° steps Accuracy: ±0.5° -25° to +60° (Roplat) Pumping line: Under roof Source head type: Bernas Wafer orientation: 0° to 360° (Programmable in 1° steps, accuracy ±2°) Recipe-controlled stepped wafer rotation Particulate control: Front side: < 0.15 particles added/cm² at > 0.16mm particles Vacuum pump: Turbo pump: STP1003 Cryo pump 1: 250F Cryo pump 2,3,4: 400 GAS Box: Ar High pressure / Internal AsH3 Cylinder type: SDS PH3 Cylinder type: SDS BF3 Cylinder type: SDS Gas line purge End station module: Wafer handler platform type: Standard Tilter type: Standard Faraday type: Standard Enclosure: Signal tower Smoke detectors Vacuum system: Source: Turbo pump type: STP1003 Rough pump type: KASHIYAMA SDE 90 Beam line: Analyzer turbo pump type: STP1003 Beamline turbo pump type: STP1003 Beam roughing pump type: KASHIYAMA SDE 90 Chamber: Chamber hi-vac pump: Cryo pump Cryo pump type: CTI 400 Cryo compressor type: CTI 9600 Loadlock Hi-vac pump: CTI400 Loadlock roughing pump: KASHIYAMA SDE 90 Includes manuals & drawing books Power: 208 V, 50/60 Hz, 3 Phase, 60 A, 4/5W 2005 vintage.
VARIAN VIISta 3000HP ist ein vielseitiger, leistungsstarker Ionenimplantierer und Monitor für industrielle Anwendungen. Mit einem robusten und langlebigen Design ist es in der Lage, eine breite Palette von Implantatenergien und Festspaltparametern bereitzustellen, die eine präzise und kontrollierte Implantation einer Vielzahl von Materialien ermöglichen. VARIAN VIISTA 3000 HP verwendet eine Hochspannungsquelle, um ein Plasma aus ionisierten Partikeln zu erzeugen, die in Richtung des Probenmaterials beschleunigt werden. Die Partikelenergie und die Durchflussrate sind einstellbar, so dass der Benutzer die Implantationsenergie und -parameter genau steuern kann. Die Monitorausrüstung mit fortschrittlichen Ladungskompensationstechniken sorgt dafür, dass auch niedrige Implantatenergien genau gesteuert und geregelt werden. VIISta 3000HP verfügt über eine breite Palette von Funktionen, die eine zuverlässige und wiederholbare Implantation von Materialien für den Einsatz in Prototypen, Werkzeugen, Masken und anderen industriellen Anwendungen ermöglichen. Es verfügt über einen Implantierer mit hoher Kapazität, der große Proben und Substrate mit einstellbaren Spalt- und Druckeinstellungen aufnehmen kann. Die Steuerung ist in hohem Maße programmierbar, so dass der Benutzer auf verschiedene Weise Operationen durchführen kann, z. B. automatische oder manuelle Bedienung. VIISTA 3000 HP ist mit zwei unabhängigen digitalen 10-Kanal-Auslesungen für die Gesamtdosis- und Profilüberwachung ausgestattet. Dadurch wird sichergestellt, dass der Implantationsprozess während des Implantationsprozesses überwacht und gegebenenfalls eingestellt werden kann. Die Vakuumkapazität und Strahlstrom-Rückkopplungstechnik wird verwendet, um Instabilitäten im Strahl zu kompensieren, um eine konsistente Dosis und Profil zu halten. VARIAN VIISta 3000HP ist mit maximaler Sicherheit konzipiert, mit einer Ionenevakuierungseinheit, Not-Aus-Taste und Überlastschutz. Die Staubsaugermaschine sorgt für eine partikelarme Umgebung, während fortgeschrittene Anti-Fouling und Reinigungssysteme vor Verunreinigungen während des Betriebs schützen. VARIAN VIISTA 3000 HP ist ein hochzuverlässiger und reproduzierbarer Ionenimplantierer und -monitor, der sich perfekt für industrielle Anwendungen mittlerer bis hoher Stückzahlen eignet. Das robuste Design und die einstellbaren Parameter machen es zu einer idealen Wahl für genaue und präzise Implantationsprozesse.
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