Gebraucht VARIAN VIISta 810 HP #9191582 zu verkaufen
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ID: 9191582
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
Medium current implanter, 12"
Dosing performance:
Range: 1E11-1E16 ions/cm2
Uniformity: ≤ 0.5% (For implant energies > 5 keV)
Repeatability: ≤ 0.5% (Wafer-to-wafer, cassette-to-cassette)
Implant angles:
Tilter: ± 60° in X and Y
Orientation: 0 - 360°
Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode
Angle control accuracy and repeatability:
Beam parallelism: ± 0.1°
X and Y Tilter: ± 0.1°
Orientation: ± 1.0°
Wafer cooling:
200 mm: ≤100°C at 800W Beam power
300 mm: ≤100°C at 900W Beam power
Particles: <0.05/cm2 (Mean value) for particle size > 0.16 µm
Metals contamination:
Heavy metals: ≤ 5 ppm (TXRF)
Aluminum: ≤ 5 ppm (SIMS)
Implant condition: 80 keV, 1e16/cm2
Ion mass resolution:
Energy > 5 kV, M/ΔM = 30
Energy > 20 kV, M/ΔM = 50
Energy > 80 kV, M/ΔM = 85
Mechanical throughput:
200 mm: > 270 WPH
300 mm: > 250 WPH (With buffer and 25 wafer cassette, Steady-state)
2002 vintage.
VARIAN VIISta 810 HP ist ein fortschrittlicher Ionenimplantator und -monitor, der eine außerordentlich präzise Kontrolle über den Implantationsprozess bietet. Dieser Implantierer ist für den Einsatz in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bestimmt und kann schnelle, wiederholbare und zuverlässige Leistung liefern. VARIAN VIISTA 810HP wird von einer leistungsstarken Antriebsausrüstung und einer Auswahl proprietärer Software für fortgeschrittene Implantationsoperationen angetrieben. Die Hochspannungsquelle dient bis zu 3 Ampere Implantatleistung mit einem wählbaren Strahlstrombereich von 2-500 µA. Dieses Modell kann auch Temperaturen bis 200 ° C sicher aufnehmen, für Operationen, die höhere Temperaturen erfordern. Dieser Implantierer weist auch zwei separate Strahlanalysesysteme auf, eines, das den Strahlstrom misst und ein anderes, das den Winkel misst. Dies ermöglicht hochgenaue Implantationsoperationen und ermöglicht fortgeschrittene Prozesse wie selektive Emitterdotierung und Steilwinkelimplantation. In Bezug auf die Leistung hat VIISta 810 HP eine ausgezeichnete Durchsatzrate und erreicht einen Implantationsdurchsatz von bis zu 400.000 Wafern pro Stunde. Seine hohe Geschwindigkeit ist teilweise auf das neue Durchlaufkorrosionspolsterdesign zurückzuführen, das den Partikelaufbau verhindert und für hochwertige Implantate sorgt. Der Implantierer verfügt auch über ein Fernüberwachungssystem, mit dem Benutzer auf die Daten des Instruments zugreifen und Einstellungen aus der Ferne vornehmen können. Diese Funktion ermöglicht auch eine komfortable Ferndiagnose und Reparatur des Geräts bei Bedarf. Insgesamt ist VIISTA 810HP eine fortschrittliche Implantationsmaschine, die eine überlegene Implantationsgenauigkeit und Qualitätskontrolle in der Halbleiter- und Elektronikindustrie bietet. Es verfügt über Hochspannungs-, Hochleistungs- und zwei separate Strahlanalysen sowie ein Fernüberwachungswerkzeug und beeindruckende Durchsatzraten. Dieser Implantierer ist sicher ein zuverlässiges und kostengünstiges Werkzeug für alle industriellen Implantationsoperationen.
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