Gebraucht VARIAN Viista 810 #193756 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 193756
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2000
Medium current implanter, 12"
Specifications:
VIISTA 810 End Station (includes polished load lock chambers)
Standard power kit
(3) High voltage warning display
Tungsten Bernas gas ion source
Bernas source Dual vaporizer
Standard Gas Box, external inert purge
External Argon (position #1)
SDS BF3 gas card (UY Bottle) (position #2)
SDS Arsenic gas card (JY Bottle) (position #3)
SDS Phosphorus gas card (JY Bottle) (position #4)
Pigtail select
External inter purge gas facility
Minimized Gas mix manifold
Bottle adapters
Rotating Mass slit assembly
Water-cooled CTI 9600 Cryogenic compressors (2 each) onboard
Chiller unit for wafer chuck (R507 refrigerant)
Xenon Gas for PFS flood gun (Lecture bottle)
Scanning faraday
12" Wafer Chuck
Dose Processor Assembly
Dose Controller
Profiler Drive Assembly
VCS Computer system
Plasma Flood Gun Kit
Closed Loop Faraday assembly
Manometer kit, 3 readouts
Spectra RGA Hardware integration
PMS particle monitoring hardware integration
Varian control system software: Rev 03.03.0118
Configuration Software Viista 810 Rev M1 config 503
SECS / GEM communication capable
Cryo Pumps:
(3) CTI 250F for endstation
(1) CTI 250F for beam-line
Roughing Pumps:
(1) Edwards iQDP40 in HV Terminal
(1) Edwards iQDP80/QMB500 for endstation
(1) scroll pump for differential seals
Turbomolecular Pumps: Varian ICE turbo pump kit
V700 on the filter, V300 on the source
Vesda Smoke Alarm System, Model VLC-500 detector
Currently installed
2000 vintage.
VARIAN Vista 810 ist ein Hochleistungs-Ionenimplantator und -monitor zur präzisen und zuverlässigen Implantation von Ionen in Substrate. Es bietet fortschrittliche Technologie, um die genaueste und präzise Implantation von Ionen für eine breite Palette von Anwendungen zu erreichen. Der Vista 810 verwendet eine maßgeschneiderte Scanausrüstung, um die Gleichmäßigkeit und Genauigkeit der Scans sicherzustellen und eine hervorragende Implantationsqualität zu gewährleisten. Die Vista 810 kann eine breite Palette von Implantatanwendungen bewältigen. Seine beeindruckende Strahlgleichmäßigkeit und Genauigkeit machen es ideal für den Einsatz in der fortgeschrittenen Halbleiterprozessentwicklung oder -produktion. Dieses System wurde entwickelt, um die Vorteile anderer VARIAN-Ionen-Implantiertechnologien zu nutzen, einschließlich magnetisch begrenzter Ionenstrahlen, kollimierter Ionenstrahlen und Partikelstrahlscannen. Die Vista 810 verfügt über eine fortschrittliche Ultrahochspannungs-Ionenquelle, die eine breite Palette von Ionenarten bei verschiedenen Energien liefert. Diese Quelle bietet viel höhere Implantationsgenauigkeit als herkömmliche Quellen. Die Einheit enthält auch einen erweiterten Ionenstrahlprofil-Monitor, um die Position der Ionen zu messen, während sie implantiert werden. Dieser Monitor ermöglicht die schnelle Erkennung von Verzerrungen im Strahlprofil. Der Vista 810 unterstützt auch eine Reihe weiterer Funktionen, die den Implantatprozess verbessern sollen. Die Maschine ermöglicht die Implementierung verschiedener Strahllinien-Konfigurationen einschließlich der Verwendung von zusätzlichen Elementen wie variablen Öffnungen und optischen Komponenten, um optimierte Experimente zu erreichen. Das Vista 810 ist auch mit erweiterten Datenerfassungs- und Analysefunktionen ausgestattet. Dies kann helfen, das Implantatprofil für verschiedene Materialien genau zu charakterisieren, was eine verbesserte Leistung ermöglicht. Insgesamt ist der Vista 810 ein fortschrittlicher Ionenimplantator und -monitor, der eine hervorragende Implantationsgenauigkeit und Gleichmäßigkeit bietet. Das Leistungsspektrum macht es ideal für den Einsatz in fortgeschrittenen Halbleiter- und Produktionsprozessen. Mit seinem fortschrittlichen Scan-Tool, der Hochspannungs-Ionenquelle sowie den Funktionen zur Datenerfassung und -analyse bietet das Vista 810 eine zuverlässige Implantation und Überwachung für eine breite Palette von Implantatanwendungen.
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