Gebraucht VARIAN Viista 810 #9191583 zu verkaufen
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ID: 9191583
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Medium current ion implanter, 12"
Parts machine
Standard power kit
High voltage warning display (X3)
Tungsten bernas gas ion source
Bernas source dual vaporizer
Standard gas box
External inert purge
Polished load lock chamber
Dosing performance:
Range: 1E11-1E16 ions/cm2
Uniformity: ≤ 0.5% (for implant energies > 5 keV)
Repeatability: ≤ 0.5% (wfr-to-wfr, cassette-to-cassette)
Implant angles:
Tilter: ± 60°in X and Y
Orientation: 0 - 360°
Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode
Angle control accuracy and repeatability:
Beam parallelism: ± 0.1°
X & Y-tilter: ± 0.1°
Orientation: ± 1.0°
Wafer cooling:
200 mm: ≤100°C @ 800W Beam power
300 mm: ≤100°C @ 900W Beam power
Particles: <0.05/cm2 (mean value) for particle size > 0.16µm
Metals contamination:
Heavy metals: ≤ 5 ppm (TXRF)
Aluminum: ≤ 5 ppm (SIMS)
Implant condition: 80keV, 1e16/cm2
Ion mass resolution:
Energy > 5 kV, M/ΔM = 30
Energy > 20kV, M/ΔM = 50
Energy > 80kV, M/ΔM = 85
Mechanical throughput:
200 mm: > 270 WPH
300 mm: > 250 WPH (with buffer and 25 wafer cassette, Steady-state)
2008 vintage.
VARIAN Viista 810 Ionenimplantator und Monitor ist ein modernes Maschinenstück, das darauf ausgelegt ist, Ionen präzise in ein Material zu implantieren. Dieses fortschrittliche Gerät verfügt über patentierte Technologie, um effiziente Implantationsraten durchzuführen und es Benutzern zu ermöglichen, den Fortschritt während der Implantation zu überwachen. Viista 810 verwendet eine moderne RF-Ionenquelle, um Ionen in das Material zu implantieren. Diese Vorrichtung ist in der Lage, Ionen verschiedener Größen und Zusammensetzungen mit großer Präzision zu implantieren. Es verfügt auch über ein hochentwickeltes automatisiertes VAFS™-System, mit dem der Benutzer eine gewünschte Implantationsrate angeben kann. VARIAN Viista 810 verwendet eine fortschrittliche Ionenstrahloptimierungstechnologie, um die Ionenbahn im dreidimensionalen Raum für eine optimale Genauigkeit der Implantation anzupassen. Dadurch wird die Anzahl der für ein gewünschtes Ergebnis erforderlichen Implantationen drastisch reduziert. Ein anderes Hauptmerkmal des Viista 810 ist die Niedrigwinkelstreuungsunterdrückungstechnologie, die den Betrag der Strahlung reduziert, die von der Implantationsseite gestreut wird. Dies hilft, das Risiko einer Exposition des Menschen gegenüber ionisierender Strahlung drastisch zu reduzieren. VARIAN Viista 810 verfügt auch über einen erweiterten Monochromator, der es dem Benutzer ermöglicht, Ionen nach ihren Energiespektren zu trennen. Dadurch wird sichergestellt, dass nur gewünschte Ionen in das Material implantiert werden, was zur weiteren Verbesserung der Genauigkeit und Kosteneffizienz beiträgt. Die erweiterte grafische Benutzeroberfläche des Geräts ermöglicht es Benutzern auch, den Fortschritt des Implantationsprozesses in Echtzeit zu überwachen. Das Gerät enthält eine Vielzahl von verschiedenen Sicherheitsmaßnahmen, einschließlich einer automatischen Abschaltfunktion, die aktiviert, wenn das Gerät überhitzt. Dies hilft, eine optimale Sicherheit bei der Verwendung des Geräts zu gewährleisten. Insgesamt ist Viista 810 ein fortschrittlicher und hocheffizienter Ionenimplantator und -monitor. Es verfügt über eine Vielzahl von Funktionen und Technologien, die die Genauigkeit und Kosteneffizienz des Implantationsprozesses erhöhen und gleichzeitig die mit der Strahlenbelastung verbundenen Risiken reduzieren sollen.
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