Gebraucht VARIAN VIISta 810Xer #9215997 zu verkaufen

VARIAN VIISta 810Xer ist eine hochmoderne Ionenimplantations- und Überwachungseinrichtung, die eine hervorragende Steuerung des Ionen-Implantat-Prozesses bietet und es Anwendern ermöglicht, leicht modernste Technologien zu erstellen. Es ist für den Einsatz in Halbleiter- und MEMS-Herstellungsprozessen konzipiert und bietet eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit im Ionen-Implantierungsprozess. Das System wird von einer fortschrittlichen Ionenquelle mit einer breiten Palette von einstellbaren Parametern, einschließlich Strahlstrom, Energieniveau, Spotgröße und anderen Parametern, angetrieben. Auf diese Weise können Anwender den Ionen-Implantierungsprozess einfach anpassen, um Technologien zu erstellen, die ihren genauen Anforderungen entsprechen. Darüber hinaus ist es mit einem Ionendetektor ausgestattet, der bis zu 10A Strom empfindlich ist und eine ausgezeichnete Genauigkeit bei der Überwachung des Prozesses bietet. Das Gerät verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der Benutzer die Bedienung einfach von einem einzigen Bildschirm aus überwachen und steuern können. Darüber hinaus verfügt die Maschine über ein Echtzeit-Datenerfassungswerkzeug, mit dem Anwender ihre Implantatparameter optimieren können, ohne die Parameter manuell anpassen zu müssen. Darüber hinaus verfügt es über eine umfassende grafische Benutzeroberfläche, mit der Benutzer den Implantationsprozess auf einem einzigen Bildschirm visualisieren können. Das Asset ist auf maximale Effizienz und Zuverlässigkeit ausgelegt. Es verfügt über eine innovative Niederdruck-Implantatkammer mit breitem Temperaturbereich kompatibel, so dass Benutzer Implantationen bei einem breiten Bereich von Temperaturen ohne Leistungsverlust durchführen können. Darüber hinaus bietet das Modell eine umfassende Gerätediagnose-Suite, mit der Benutzer alle Komponentenfehler schnell erkennen und beheben können. VARIAN VIISTA 810 XER ist ein erstklassiges Ionenimplantier- und Überwachungssystem, das eine hervorragende Genauigkeit und zuverlässige Leistung bietet. Mit seiner fortschrittlichen Ionenquelle und integrierten Überwachungseinheit ist es ideal für Halbleiter- und MEMS-Herstellungsprozesse und bietet eine außergewöhnliche Kontrolle des Ionenimplantatprozesses.