Gebraucht VARIAN VIISta PLAD #9262785 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9262785
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Ion source implanter, 12"
Single wafer pulsed plasma doping system, 12"
Includes:
Diborane RF process chamber, 12"
Small WIP buffer, 12"
BF3 Process chamber
DC Power supplies:
Pulse width: Up to 200 µs at 10 kV
Pulse frequency: Up to 10 KHz at 10 kV
2005 vintage.
VARIAN VIISta Plasma Implante rand Monitor ist ein vielseitiger und leistungsstarker Ionen-Implantierer und -Monitor, der im Bereich der Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen eingesetzt wird. Es ist in der Lage, Ionen mit hoher Genauigkeit und Präzision in Substrate zu implantieren sowie Implantationsparameter (wie Strahlstrom, Spannung und Dosis) mit modernster In-situ-Diagnose zu überwachen. VARIAN VIISta ist mit einer fünfachsigen Koordinatenbewegungsstufe ausgestattet, die eine hochpräzise Strahlausrichtung und kontinuierliche Verarbeitung von Wafern und anderen Substraten ermöglicht. Ein privates Softwarepaket ermöglicht eine präzise Steuerung der Strahleinstellungen, so dass Benutzer den Prozess je nach Art des hergestellten Halbleiterbauelements anpassen können. Darüber hinaus verfügt VARIAN VIISta über einen 10-Ziel-Plasmagenerator, mit dem eine breite Palette von Ionenarten implantiert werden kann. Fortgeschrittene Ionendiagnostik ist direkt in die Maschine integriert, einschließlich eines Multi-Target-Desorptionskraftanalysators, der eine genaue Überwachung der Dotierstoffkonzentration und Energietiefenverteilung ermöglicht. Zusätzlich liefert ein Energie-Spreizanalysator sehr detaillierte Energiespektren. Dieses fortschrittliche Überwachungssystem ermöglicht es Benutzern, Feedback zu ihren Implantatparametern zu erhalten und ermöglicht eine Optimierung und Modifizierung, um eine präzise Kontrolle über den Ionenimplantationsprozess zu erreichen. Zusammen mit seiner Excimer-Laserquelle ist VARIAN VIISta ein äußerst effizientes Werkzeug für die anspruchsvolle Ionenimplantation, das eine beispiellose Genauigkeit und Wiederholbarkeit im Herstellungsprozess ermöglicht. Seine Suite an fortschrittlichen Diagnose- und Softwaresteuerungen ermöglicht es Benutzern, den Ionenimplantationsprozess bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen zu feinjustieren. Es bietet Entwicklern eine effektive Plattform, um ihren Prozess für verbesserte Geschwindigkeit, Genauigkeit und Ertrag zu optimieren.
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